【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及掩模板用基板，特别是涉及用于制造FPD设备的大型掩模板用基板。
技术介绍
近年的电子器件，特别是半导体元件和液晶显示器用的彩色滤光片或TFT元件等，伴随着IT技术的迅速发展，要求更加微细化。支持这样的微细加工技术的技术之一是使用被称作转印掩模的光掩模的光刻技术。在该光刻技术中，使曝光用光源的电磁波乃至光波通过光掩模对带抗蚀剂膜的硅片等进行曝光，由此在硅片上形成微细的图形。该光掩模的制造通常通过以下方式进行在透光性基板上形成有遮光性膜等薄膜的掩模板上，利用光刻技术对所述薄膜印刻图形，由此形成作为转印图形的薄膜图形。然而，为了实现图形的微细化，成为用于制造光掩模的原版的掩模板的品质的提高也极其重要。在半导体用的光掩模中，对基板的主表面进行镜面研磨，并且对在基板的主表面的周缘形成的端面也实施研磨以使其成为规定的镜面。然而，在液晶显示器、有机电致发光显示器、等离子显示器等平板显示器(FPD:Flat Panel Display)的大型光掩模中，在当初开发时，并未要求将端面做成镜面，因此端面保持粗糙面的状态。这样，在端面为粗糙面的情况下，附着于端面的研磨剂...
【技术保护点】
１．一种掩模板用基板，是由正反两个主表面和四个端面构成的薄板，在所述端面与所述主表面之间具有倒角面，该掩模板用基板的特征在于，所述主表面的一条边的长度为５００ｍｍ以上，所述端面包括：从相邻的端面相接的角部起在主表面侧的边方向上具有规定长度的范围的区域亦即两个角部侧区域、和被这两个角部侧区域夹着的中央侧区域，所述角部侧区域的端面是表面粗糙度（Ｒａ）为０．５ｎｍ以下的镜面，所述中央侧区域是粗糙面。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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