现场处理废气流的装置和方法制造方法及图纸

一种用于从气流中除去不良成分（如卤化合物、酸性气体、硅烷、氨等）的系统，通过用含水的洗涤介质洗涤废气流。卤化合物（如氟气、氟化物、全氟碳化合物和含氯氟烃）在存在还原剂（如硫代硫酸钠、氢氧化铵或碘化钾）的条件下被洗涤。在一个实施方案中，洗气系统包括一个气／液并流操作的第一酸性气体洗涤装置，和一个气／液逆流操作的第二“精加工”装置，从而只需要低消耗量的水就可获得高净化率。洗气系统可以使用由多孔容器结构包裹的可拆除的填料插入层。本发明专利技术的净化系统尤其适用于处理半导体制造工艺产生的废气。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种从废气流中去除不想要的成份的方法，所述成份如氟、硅烷、气态氟化物、酸性气体和气态氯化物，更具体地说在制造半导体的过程中利用湿式洗涤设备和方法除去上述类型的不想要的成份。
技术介绍
关于使用湿式洗气方法净化去除半导体排出气，各种用途都需要除去氢化物气体、酸性气体及夹带的固体。尤其是在使用或制造SiH4(硅烷)、NH3(氨气)、F2(氟气)、HF(氟化氢)、SiF4(四氟化硅)、或COF2(碳酰氟)、如某种CVD(化学汽相沉积)方法时更是如此。在这些废气流处理的应用中，现有技术一般采用一种多成份洗气系统。在这样一种设备中，硅烷和任意的氨在一种净化系统室中被热氧化，及HF、F2、SiH4、COF2和任意的氨在另一个单独地室中用水洗涤。热氧化的缺点是(i)高能耗，及(ii)氨的氧化产生NOx。此外，高温加热室由于酸性气体被加热而加快了对加热室下游的腐蚀，但是酸性气体在加热设备中不会减少。水洗涤室直接位于加热室的下游。热酸性气体在位于水洗涤设备和加热设备之间的热、湿接触区域产生腐蚀。因而迫切需要人们开发出一种简单的、可靠的洗涤设备以有效地处理含有上述类型气体的废气流。更具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理废气以除去废气中可水洗成份的洗气系统，其通过将废气和含水的洗涤介质在气／液接触室相接触，包括一个围成所述接触室的内部空间的室壁，所述接触室包括使流体沿着室壁进入所述室内部空间的设备。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：乔斯I阿尔诺，马克R霍尔斯特，萨姆伊，约瑟夫D斯威尼，杰夫洛里里，贾森德塞夫，
申请(专利权)人：高级技术材料公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]