【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种用于从上面具有氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残余物材料的微电子器件的表面选择性去除氮化钛和/或光致抗蚀剂蚀刻残余物材料的组合物，所述组合物包含至少一种氧化剂、至少一种蚀刻剂、至少一种金属腐蚀抑制剂、至少一种螯合剂和至少一种溶剂。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈丽敏，斯蒂芬·里皮，埃马纽尔·I·库珀，宋凌雁，
申请(专利权)人：高级技术材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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