【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种太阳能电池干法刻蚀和PECVD工序中用于防止等离子辐射的盖子。
技术介绍
等离子体刻蚀机和PECVD是太阳能电池片生产过程中较常用的设备。由于太阳能硅片在扩散过程中，即使采用背靠背扩散，硅片的所有表面(包括边缘)都将不可避免地扩散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域，流到PN结的背面， 而造成短路，此短路通道等效于降低并联电阻，所以需要使用刻蚀工序将太阳能硅片边缘的PN结去掉。PECVD技术原理是利用低温等离子体作能量源，样品置于低气压下辉光放电的阴极上，利用辉光放电(或另加发热体)使样品升温到预定的温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固态薄膜，起到减反射和钝化的作用。等离子体刻蚀机和PECVD —般都设有透明材料的观察窗，这种材料不能有效的防止等离子体辐射，刻蚀工序员工易受到等离子体辐射的污染。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种能有效防止等离子体辐射的盖子。为了达到上述目的，本技术的技术方案是提供了一种用于防止等离子体辐射的盖子，其特征在于包括可360度旋转的合页，合页的一端固定在机体观察窗的上方，由铅制得的盖板与在合页的另一端相连，盖板将观察窗完全遮盖住，在盖板的表面覆盖有一层铝薄板。本技术能有效得防止等离子体刻蚀机观察窗处的等离子体辐射泄露，盖板采用可活动的形式，不影响技术员观察等离子体形态，在防辐射材料铅外包裹一层铝，防止员工直接与铅接触。附图说明图1为本技术提供的一种用于防止等离子体辐射的盖子示意图。具体实施方式以下结合实施例来具体说明本技术。 实施例如图1所示，...
【技术保护点】
１．一种用于防止等离子体辐射的盖子，其特征在于：包括可３６０度旋转的合页（１），合页（１）的一端固定在机体观察窗（３）的上方，由铅制得的盖板（２）与在合页（１）的另一端相连，盖板（２）将观察窗完全遮盖住，在盖板（２）的表面覆盖有一层铝薄板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：孙波远，石劲超，
申请(专利权)人：百力达太阳能股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：33
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。