离子注入装置及束电流密度分布的调整方法制造方法及图纸

技术编号:7007366 阅读:223 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供离子注入装置及束电流密度分布的调整方法。在使m个(m为2以上的整数)带状离子束在玻璃基板上的照射区域至少部分重叠,在玻璃基板上实现规定的注入量分布的离子注入装置中,能高效地调整各带状离子束的束电流密度分布。对各带状离子束设定作为束电流密度分布的调整目标的目标分布,按照预先决定的顺序,调整第一个至第m-1个带状离子束的束电流密度分布,使得其相对于目标分布进入第一容许范围内。其后,根据将各带状离子束的调整结果合计得到的分布与将对m个离子束设定的目标分布合计得到的分布的差,设定用于调整第m个束电流密度分布的新的目标分布,调整第m个束电流密度分布,使得其相对于新的目标分布进入第二容许范围内。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及使由多个带状离子束照射的区域重叠,在玻璃基板上形成规定的注入量分布的离子注入装置以及在该离子注入装置中使用的束电流密度分布的调整方法。
技术介绍
近年来,以液晶电视为代表的液晶产品的大型化非常显著。在半导体制造工序中, 为了在一个处理工序中处理更多的液晶面板,进行了增大玻璃基板的尺寸,并从大型的玻璃基板获得多块液晶面板的尝试。对于作为半导体制造装置之一的离子注入装置,要求要与这样的大型的玻璃基板相适应。为了应对这样的要求,至今为止开发了专利文献1所记载的离子注入装置。在专利文献1中公开了 使用比玻璃基板的尺寸小的两个离子束,对玻璃基板的整个面实施离子注入处理的技术。更具体地说,在专利文献1中,作为一个例子,把相互垂直的三个方向(χ、γ及Z方向)分别定义为离子束的短边方向、离子束的长边方向及离子束的行进方向。两个离子束在X方向上位于相互离开的位置,在Y方向上使双方的中心位置相互错开,使得在玻璃基板上由各离子束照射的区域部分重叠,在对玻璃基板实施离子注入处理的处理室内进行照射。此外,通过以横穿这样的离子束的方式,沿X方向输送玻璃基板,可以沿玻璃基板的整个面实现离子注入处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种离子注入装置,其特征在于包括:m个离子束供给装置,提供m个带状离子束,其中m为2以上的整数;束轮廓仪,设置于处理室内,分别测定所述m个带状离子束在长边方向上的束电流密度分布;束电流密度分布调整部件,按照每个所述离子束供给装置分别设置,用于调整用所述束轮廓仪测定的所述束电流密度分布;玻璃基板输送机构,在所述处理室内,以与所述m个带状离子束的长边方向交叉的方式输送玻璃基板;以及控制装置,控制所述束电流密度分布调整部件,在由所述玻璃基板输送机构输送的所述玻璃基板上,使由所述m个带状离子束照射的区域至少部分重叠,实现预先规定的注入量分布,所述控制装置对所述m个带状离子束分别设定作为所述束电流密...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:中尾和浩
申请(专利权)人:日新离子机器株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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