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本发明提供离子注入装置及束电流密度分布的调整方法。在使m个(m为2以上的整数)带状离子束在玻璃基板上的照射区域至少部分重叠，在玻璃基板上实现规定的注入量分布的离子注入装置中，能高效地调整各带状离子束的束电流密度分布。对各带状离子束设定作为束...
该专利属于日新离子机器株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日新离子机器株式会社授权不得商用。

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