从钼酸铵溶液中除去微量P、As、Si杂质的方法技术

本发明专利技术公开了一种从钼酸铵溶液中除去微量P、As、Si杂质的方法，其特征是将待除杂质的钼酸铵溶液升温至45～50℃；根据溶液体积及杂质含量加入前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣，搅拌10～15min；按钼酸铵溶液中P、As、Si理论化学计量的1.0～1.5倍加入工业氯化镁，搅拌20～40min；降温至35～40℃加入活性炭，搅拌15～20min后过滤；得到合格的钼酸铵溶液。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及从钼酸铵溶液中除去P、As、Si杂质的方法，特别是。
技术介绍
一直以来，纯金属钼通过将钼酸铵煅烧、氢还原后获得，钼酸铵作为金属钼的前驱体，其品质直接关系到金属钼的品质，因此，在生产钼酸铵过程中，须通过各种办法除去钼酸铵溶液中的杂质，其中除去钼酸铵溶液中P、As、Si杂质的方法最常用的是在钼酸铵溶液中加入工业氯化镁，工业氯化镁的加入量按P、As、Si化学理论量的1. 0 1. 5倍；如果钼酸铵溶液中P、As、Si杂质含量较高时，此方法除杂效果明显；可当钼酸铵溶液中P、As、Si杂质含量为微量时，工业氯化镁的使用量须加大，除杂时间须延长，生成的杂质沉淀物量少、 稞粒细，真空抽滤时易跑滤，部份杂质仍进入到钼酸铵溶液中，除杂效果不太理想，同时过量工业氯化镁的使用容易引入其他杂质，增加钼酸铵溶液的净化负担，增加了生产成本。
技术实现思路
为了高效地除去钼酸铵溶液中的P、As、Si杂质，特别是从钼酸铵溶液中除去微量 P、As、Si杂质，本专利技术提供了。本专利技术的技术方案是当钼酸铵溶液中P、As、Si杂质含量为微量时，先将钼酸铵溶液升温至45 50°C ；根据溶液体积及杂质含量加入前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣，加入量按加入量(kg)=溶液体积的立方数X 3 9，搅拌10 15min ；按钼酸铵溶液中P、As、Si理论化学计量的1. 0 1. 5倍加入工业氯化镁，搅拌20 40min ；降温至 35 40°C加入活性炭，活性炭加入量按加入量(kg)=溶液体积的立方数Xl 2 ；搅拌 15 20min后过滤；得到合格的钼酸铵溶液。本专利技术改进了通常使用的在钼酸铵溶液中除去P、As、Si杂质的方法，采用“晶种” 原理，首先将溶液升温50°C左右，加入前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣作为“晶种”，解决了钼酸铵溶液微量P、As、Si杂质去除难的问题，即节省了生产成本又提高了产品质量，同时，避免了因增大工业氯化镁用量容易带入其他杂质使钼酸铵溶液二次“污染”的风险；加入活性炭，使溶液得到深度净化，保证了产品质量；本专利技术在钼酸铵溶液中除去微量P、As、Si杂质过程中可保证钼的回收率>99.5%，产出的钼酸铵质量符合国家标准(GB/ T3460-2007) 一级品以上。具体实施例方式下面结合实施例对本专利技术作进一步描述实施例一取2m3待除杂的的钼酸铵溶液(P 1. 02，SiO2 1. 98，As 0. 12，)，升温至48°C。力口入氨水调PH值至8. 5，加入IOkg前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣，搅拌lOmin，加入35升工业氯化镁溶液(氯化镁含量330g/l)，搅拌25min，降温至42°C，加入活性碳2kg， 搅拌15min后过滤；滤液50°C按酸沉化学理论计量的1. 05倍加入工业浓硝酸结晶钼酸铵， 产品钼酸铵结果如下权利要求1.，其特征是将待除杂质的钼酸铵溶液升温至45 50°C ；根据溶液体积及杂质含量加入前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣，搅拌10 15min ；按钼酸铵溶液中P、As、Si理论化学计量的1. 0 1. 5倍加入工业氯化镁，搅拌20 40min ；降温至35 40°C加入活性炭，搅拌15 20min后过滤；得到合格的钼酸铵溶液。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于待除杂质的钼酸铵溶液中微量P、As、Si 杂质的范围为P、As、Si杂质含量分别彡28/1或？、々8、51杂质总含量彡5g/l时。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于加入的前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣可用新购的磷酸镁盐替代。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣或磷酸镁盐加入量按加入量(kg)=溶液体积的立方数X3 9。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于活性炭加入量按加入量(kg)=溶液体积的立方数Xl 2。全文摘要本专利技术公开了一种，其特征是将待除杂质的钼酸铵溶液升温至45～50℃；根据溶液体积及杂质含量加入前期生产钼酸铵除P、As、Si杂质产生的渣，搅拌10～15min；按钼酸铵溶液中P、As、Si理论化学计量的1.0～1.5倍加入工业氯化镁，搅拌20～40min；降温至35～40℃加入活性炭，搅拌15～20min后过滤；得到合格的钼酸铵溶液。文档编号C01G39/00GK102219259SQ20101014982公开日2011年10月19日 申请日期2010年4月14日 优先权日2010年4月14日专利技术者李万龙, 杜军, 汤志强, 赖坚 申请人:湖南荣宏钼业材料股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．从钼酸铵溶液中除去微量Ｐ、Ａｓ、Ｓｉ杂质的方法，其特征是：将待除杂质的钼酸铵溶液升温至４５～５０℃；根据溶液体积及杂质含量加入前期生产钼酸铵除Ｐ、Ａｓ、Ｓｉ杂质产生的渣，搅拌１０～１５ｍｉｎ；按钼酸铵溶液中Ｐ、Ａｓ、Ｓｉ理论化学计量的１．０～１．５倍加入工业氯化镁，搅拌２０～４０ｍｉｎ；降温至３５～４０℃加入活性炭，搅拌１５～２０ｍｉｎ后过滤；得到合格的钼酸铵溶液。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李万龙，赖坚，汤志强，杜军，
申请(专利权)人：湖南荣宏钼业材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：43