本发明专利技术提供一种胶涂覆设备及胶涂覆方法，涉及薄膜晶体管液晶显示器的制造工艺设备和工艺方法，能够减少或避免层与层之间出现气泡，进而提高TFT?LCD的质量和制作效率。胶涂覆设备，包括：喷嘴、与喷嘴连接的胶供给机构和喷嘴移动机构，所述喷嘴中包括至少两排胶喷孔，相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。本发明专利技术用于涂覆多层胶。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种薄膜晶体管液晶显示器的制造工艺设备和工艺方法，尤其涉及一种。
技术介绍
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)技术在近十几年有了飞速的发展，从屏幕的尺寸到显示的质量都取得了很大进步。经过不断的努力。LCD各方面的性能已经达到了传统CRT (Cathode RayTube,阴极射线管)的水平，大有取代CRT的趋势。随着LCD生产的不断扩大，各个生产商之间的竞争也日益激烈。各厂家在不断提高产品性能的同时，也在不断努力降低产品的生产成本，从而提高市场的竞争力。多畴掩膜曝光是目前光刻工序的主要发展趋势之一，通过多畴掩膜曝光能够实现快速提高产能并降低成本的作用。目前多畴掩膜曝光主要是在某一种具有宽感光敏感区域的光刻胶上制备多畴区域实现的。目前制备双层光刻胶的方法是先涂覆完一层第一种胶后，再在第一层胶上用同样的方法制备第二层第二种胶，或者用间隔较大的两个或两个以上喷嘴先后涂覆制备多层光刻胶。在这种情况下，由于涂覆第二层胶的时候第一层胶还没有固化，而为了避免由于液体表面张力的作用导致的第一种胶吸附污染第二种胶的喷嘴，所以第二种胶的喷嘴不能离第一层胶的表面太近，因此涂覆后两层胶之间会出现气泡，导致多畴掩膜曝光不良。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种，在涂覆多层胶时，能够减少甚至避免层与层之间出现气泡，进而提高TFT LCD的质量和制作效率。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案一种胶涂覆设备，包括喷嘴、与喷嘴连接的胶供给机构和喷嘴移动机构，所述喷嘴中包括至少两排胶喷孔，相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。本专利技术还提供一种胶涂覆方法，包括由喷嘴移动机构带动喷嘴在基板上移动，并以与喷嘴移动方向相反的方向，顺次打开所述喷嘴中的各排胶喷孔进行胶涂覆。本专利技术提供的，设备喷嘴中含有多排胶喷孔，且相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。在进行胶涂覆时，通过顺次打开各排胶喷孔，可以在一个喷嘴的一次移动中同时完成多层胶的涂覆，省略了现有技术中，为涂覆多层胶所用的多个喷嘴，从而也减少甚至避免了多个喷嘴涂覆时由于喷嘴距离的偏差所造成的各层胶之间留有气泡的问题，进而减少了多畴掩膜曝光的不良，提高了 TFT LCD的质量和制作效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的光刻胶涂覆设备的示意图；图2为本专利技术实施例提供的喷嘴的侧面示意图；图3为本专利技术实施例提供的喷嘴的另一侧面示意图；图4为本专利技术实施例提供的喷嘴涂覆得到的多层光刻胶的侧面示意图；图5为本专利技术实施例提供的喷嘴的仰视示意图；图6为本专利技术实施例提供的喷嘴的另一仰视示意图；图7为本专利技术实施例提供的喷嘴的又一侧面示意图；图8为本专利技术实施例提供的光刻胶涂覆方法的流程框图。符号说明1、平台2、喷嘴3、基板4、隔垫物5、第一层光刻胶6、第二层光刻胶7、 隔垫物201、第一排光刻胶喷孔202、第二排光刻胶喷孔203、第三排光刻胶喷孔具体实施例方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术提供的胶涂覆设备，包括喷嘴、与喷嘴连接的胶供给机构和喷嘴移动机构，其中，该喷嘴中包括至少两排胶喷孔，相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。下面，以实际中常用的涂覆光刻胶的光刻胶涂覆设备为例进行说明。但本专利技术不只限于涂覆光刻胶，所有满足本专利技术主旨条件的胶类涂覆都应在本专利技术保护范围内。如图1所示，本实施例的光刻胶涂覆设备，包括平台1、喷嘴2、与喷嘴2连接的供给光刻胶的光刻胶供给机构(图中未表示)和带动喷嘴2移动的喷嘴移动机构(图中未表示)，此外，待涂覆光刻胶的基板3放置在平台1上。这些部分与现有技术的总的光刻胶涂覆设备相同，本专利技术的改进之处在于喷嘴2。本专利技术的一个喷嘴2中包括至少两排光刻胶喷孔，且相邻的两排光刻胶喷孔之间用隔垫物4隔开(图1中以喷嘴2中包含两排光刻胶喷孔，且两排喷嘴中有一个隔垫物4 为例)。这样，在喷嘴2的一次移动过程中，通过顺次打开各排光刻胶喷孔，分时段涂覆，从而能够一个喷嘴一次移动完成多层光刻胶的涂覆。在光刻胶涂覆完成后，经过低压干燥、烘烤、曝光、显影、刻蚀等工艺最终完成光刻工艺。本专利技术提供的光刻胶涂覆设备，设备喷嘴中含有多排光刻胶喷孔，且相邻的两排光刻胶喷孔之间用隔垫物隔开。在进行光刻胶涂覆时，通过顺次打开各排光刻胶喷孔，可以在一个喷嘴的一次移动中同时完成多层光刻胶的涂覆，省略了现有技术中，为涂覆多层光刻胶所用的多个喷嘴，从而也防止了多个喷嘴涂覆时由于喷嘴距离的偏差所造成的各层光刻胶之间留有气泡的问题，进而减少了多畴掩膜曝光的不良，提高了 TFT LCD的质量和制作效率。喷嘴具体实施例一图2为本专利技术提供的喷嘴的侧面示意图。在本实施例中，以喷嘴2中包含两排光刻胶喷孔201、202为例进行说明。在图2中，喷嘴2中包括两排光刻胶喷孔201和202，中间用一楔形隔垫物4隔开。 当喷嘴2以箭头所指方向移动时，由于楔形隔垫物4的楔形斜面，从光刻胶喷孔排201中流出的第一层光刻胶5能够贴合着楔形隔垫物4的楔形斜面顺畅地流出，附着在基板3上。图5是图2中的喷嘴2从下向上看的仰视示意图。从图5中可以清楚地看到，喷嘴2中包含两排光刻胶喷孔201和202，其中每排光刻胶喷孔有多个，这些光刻胶喷孔排列成与喷嘴2的移动方向(箭头方向)相垂直的一排。相邻的两排光刻胶喷孔201和202之间，用楔形隔垫物4隔开。进一步地，当喷嘴2中有多排光刻胶喷孔时，例如如图6所示的三排光刻胶喷孔 201,202和203，同样，每排光刻胶排喷嘴为多个，多个喷嘴排列成与喷嘴2的移动方向(箭头方向)相垂直的一排，相邻的两排光刻胶喷孔201和202之间用楔形隔垫物4隔开，光刻胶喷孔202和203之间用楔形隔垫物7隔开。若还有多排喷嘴，则也按此方式排列。一种优选的方式是，如图7所示，喷嘴中的楔形隔垫物4相对较长，其延伸出来的顶端在涂覆时，刚好与其下方所涂覆的光刻胶5的上表面相接触。采用这种楔形隔垫物能够保持多层光刻胶之间处于最佳分层状态，并且楔形隔垫物4的顶端在移动的过程中能够在下一层光刻胶涂覆前平整底层胶。下面对利用本专利技术提供的光刻胶涂覆设备进行光刻胶涂覆的方法进行说明。其步骤如图8所示，包括S801、将基板放置在平台上，调整基板与喷嘴的间距至合适位置。S802、由喷嘴移动机构带动喷嘴在基板上移动，并以与喷嘴移动方向相反的方向， 顺次打开各排光刻胶喷孔进行光刻胶涂覆。具体的，以图2 图4中两排光刻胶喷孔涂覆两层光刻胶为例，如图2所示，涂胶开始时首先打开喷嘴2的第一排光刻胶喷孔201，在基板3的边缘制备1 5mm(即规定长度)长的第一层光刻胶5起涂区，然后等待5 30秒(即规定时间)，这样第一层光刻胶5 起涂区域的上表面就会由于溶剂的挥本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种胶涂覆设备，包括：喷嘴、与喷嘴连接的胶供给机构和喷嘴移动机构，其特征在于，所述喷嘴中包括至少两排胶喷孔，相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：周伟峰，郭建，明星，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：11
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