薄膜晶体管、液晶显示面板及其制造方法技术

本发明专利技术公开一种薄膜晶体管、液晶显示面板及其制造方法。该液晶显示面板将透明导电层直接形成薄膜晶体管的第一电极与第二电极，同时该透明导电层也作为薄膜晶体管与数据线之间以及薄膜晶体管与液晶电容之间的连接线。因此，薄膜晶体管上方无须另外形成一接触窗来提供接触点，如此，在像素设计上可提供更大的弹性，也可提供更高的开口率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示面板领域，尤指一种将透明导电层直接作为源/漏极并电性 连接数据线的薄膜晶体管、具有该薄膜晶体管的液晶显示面板及该液晶显示面板的制造方 法。
技术介绍
功能先进的显示器渐成为现今消费电子产品的重要特色，其中液晶显示器已经逐 渐成为各种电子设备如移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记型计 算机屏幕所广泛应用具有高分辨率彩色屏幕的显示器。传统液晶显示器的液晶显示面板包含数个像素(pixel)，而每一个像素包含三个 分别代表红绿蓝(RGB)三原色的像素单元构成。请参阅图1，图1是一般液晶显示面板的 像素单元10的示意图。如图1所示，当栅极驱动器(未图示)输出的扫描信号经过扫描线 11使得每一列的像素单元的薄膜晶体管13依序开启，同时源极驱动器(未图示)则经过 数据线12输出对应的数据信号至一整列的像素单元使其充电到各自所需的电压，以显示 不同的灰阶。栅极驱动器会一列接一列地输出扫描信号以将每一列的像素单元的薄膜晶体 管13打开，再由源极驱动器对每一列开启的像素单元进行充放电。如此依序下去，直到所 有像素单元10都充电完成，再从第一列开始充电。请一并参阅图2与图1，图2显示了图1中A至B至C点的横截面图。如图2所 示，在A、B两点间，薄膜晶体管13的栅极131是由第一金属层形成，而源极132与漏极133 则是以第二金属层所形成。而于B、C两点间，储存电容Cst的下极板141也是由第一金属 层形成。而于薄膜晶体管13与储存电容Cst之间的透明导电层15则是像素区域。在此请参阅图3至图7，图3至图7是完成图2所示的结构所须的制程流程图，其 中，每一个图均代表一道掩膜制程，也就是说，完成图2所绘示的的结构必须经过五道掩膜 制程。请参阅图3，在此道制程之中，会先于玻璃基板101上沉积第一金属层(未图示) 并利用第一道掩膜进行显影制程。显影制程是在第一金属层上涂布光阻(未图示)后，利 用具有特定图案的第一道掩膜对光阻进行曝光再用显影剂(develope)将已曝光的光阻洗 除。之后对第一金属层进行蚀刻制程。蚀刻制程是将没有光阻覆盖的第一金属层以强酸移 除，而有光阻覆盖的第一金属层(大致呈该特定图案)会产生图3所示的作为薄膜晶体管 13的栅极131和储存电容Cst的下极板141，接着再洗除剩余的光阻。请继续参阅图4，在此道制程中，首先会先沉积隔离层(isolation layer) 16，接着 沉积主动层(active layer) 17，最后再沉积欧姆接触层(n+layer) 18，之后利用第二道掩膜 进行显影制程，并且对主动层17与欧姆接触层18进行蚀刻制程。请继续参阅图5，在此道制程之中，首先会先沉积第二金属层(未图示)，之后再利 用第三道掩膜进行显影制程，并且对第二金属层和欧姆接触层18进行蚀刻制程，以产生薄 膜晶体管的漏极132与源极133以及数据线12。6请继续参阅图6，在此道制程中，首先会先沉积钝化层(passivation layer) 19，之 后再利用第四道掩膜进行显影制程，并且对钝化层19进行蚀刻制程，以于源极133之上产 生一接触窗(via) 20。最后请参阅图7，在此道制程中，首先会先沉积透明导电层15，接着用第五道掩膜 进行显影制程，并且对透明导电层15进行蚀刻制程，以产生图7所示的结构，至此，整个液 晶显示面板10的基本结构业已完成。然而，上述的结构与制程技术尚有改进空间，举例来说，像素区域的开口率尚有提 升的必要，以提升整体面板的透光率。
技术实现思路
根据本专利技术的实施例，本专利技术揭露一种液晶显示面板的制造方法。包括提供一玻 璃基板；蚀刻形成于玻璃基板上的第一金属层，以形成一数据线；依序沉积一第一钝化层 和一第二金属层于玻璃基板以及第一金属层上；蚀刻第二金属层，以形成一开关单元的控 制电极；依序沉积一隔离层以及一主动层于第一钝化层以及第二金属层上；同时蚀刻主动 层以保留控制电极上方的主动层，其中主动层作为开关单元的传输通道；蚀刻数据线上方 的第一钝化层以及隔离层，以于数据线上方形成一接触窗；沉积一透明导电层于隔离层、数 据线以及主动层上；以及蚀刻透明导电层以将透明导电层分为第一导电层和第二导电层， 其中数据线经过接触窗上的第一导电层电性连接主动层，且主动层电性连接第二导电层。根据本专利技术的实施例，本专利技术揭露一种液晶显示面板。包含一玻璃基板；一第一 金属层，位于玻璃基板上，用来作为一数据线；一第一钝化层，位于玻璃基板以及第一金属 层上；一第二金属层，位于第一钝化层之上，作为一开关单元的控制电极；一隔离层，位于 第一钝化层以及第二金属层上；一主动层，位于隔离层上，用来作为开关单元的传输通道； 一接触窗，形成于数据线的上方；以及一透明导电层，位于隔离层以及接触窗上，透明导电 层包含一第一导电层和一第二导电层，第一导电层用来电性连接数据线，第二导电层用来 作为像素电极，其中当控制电极接收一扫描电压时，会将数据线传来的数据电压经过第一 导电层、主动层传输到第二导电层。根据本专利技术的实施例，本专利技术揭露一种薄膜晶体管，形成于一玻璃基板上。薄膜晶 体管包含一第一钝化层，位于玻璃基板之上；一金属层，位于第一钝化层和基板之上，作 为薄膜晶体管的栅极；一隔离层，位于金属层上；一主动层，位于隔离层上，用来作为薄膜 晶体管的传输通道；以及一透明导电层，透明导电层被一通孔贯穿而分为第一导电层和第 二导电层，第一导电层作为薄膜晶体管的第一电极，用来传递自第一电极输出或输入至第 一电极的电信号，第二导电层作为薄膜晶体管的第二电极，用来传递自第二电极输出或输 入至第二电极的电信号。根据本专利技术的实施例，本专利技术还揭露一种液晶显示面板的制造方法。包含提供一 玻璃基板；蚀刻形成于玻璃基板上的第一金属层，以形成一开关单元的控制电极；依序沉 积一第一钝化层和一第二金属层于玻璃基板以及第一金属层上；蚀刻第二金属层以形成一 数据线；依序沉积一隔离层以及一主动层于第一钝化层以及第二金属层上；同时蚀刻主动 层以保留控制电极上方的主动层，其中主动层作为开关单元的传输通道；蚀刻数据线上方 的第一钝化层以及隔离层，以于数据线上方形成一接触窗；沉积一透明导电层于隔离层、数据线以及主动层上；以及蚀刻透明导电层以将透明导电层分为第一导电层和第二导电层， 其中数据线经过接触窗上的第一导电层电性连接主动层，且主动层电性连接第二导电层。根据本专利技术的实施例，本专利技术还揭露一种液晶显示面板。包含一玻璃基板；一 第一金属层，位于玻璃基板上，用来作为一开关单元的控制电极；一第一钝化层，位于玻璃 基板以及第一金属层上；一第二金属层，位于第一钝化层之上，作为一数据线；一隔离层， 位于第一钝化层以及第二金属层上；一主动层，位于隔离层上，用来作为开关单元的传输通 道；一接触窗，形成于数据线的上方；以及一透明导电层，位于隔离层以及接触窗上，透明 导电层包含一第一导电层和一第二导电层，第一导电层用来电性连接数据线，第二导电层 用来作为像素电极，其中当控制电极接收一扫描电压时，会将数据线传来的数据电压经过 第一导电层、主动层传输到第二导电层。根据本专利技术的实施例，本专利技术还揭露一种薄膜晶体管，形成于一玻璃基板上。薄膜 晶体管包含一金属层，位于玻璃本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种液晶显示面板的制造方法，包含：提供一玻璃基板；蚀刻形成于所述玻璃基板上的第一金属层，以形成一数据线；依序沉积一第一钝化层和一第二金属层于所述玻璃基板以及所述第一金属层上；蚀刻所述第二金属层，以形成一开关单元的控制电极；依序沉积一隔离层以及一主动层于所述第一钝化层以及所述第二金属层上；同时蚀刻所述主动层以保留所述控制电极上方的所述主动层，其中所述主动层作为所述开关单元的传输通道；蚀刻所述数据线上方的所述第一钝化层以及所述隔离层，以于所述数据线上方形成一接触窗；沉积一透明导电层于所述隔离层、所述数据线以及所述主动层上；以及蚀刻所述透明导电层以将所述透明导电层分为第一导电层和第二导电层，其中所述数据线经过所述接触窗上的所述第一导电层电性连接所述主动层，且所述主动层电性连接所述第二导电层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈政鸿，贺成明，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：94