【技术实现步骤摘要】
本专利技术是一种电器触头生产新方法，特别涉及。
技术介绍
高、低压电器在电力传输、控制、保护等各领域有着极为广泛的应用。电器触头是高低压电器中的关键部件，其表面要求耐高温、耐磨损、耐腐蚀、电阻率小、承载电流能力强，对于工业化产品并要求成本低、加工方便。
技术实现思路
本专利技术，采用合金材料作为胚体，该生产新方法制得的产品耐高温、耐磨损、耐腐蚀、电阻率小、承载电流能力强、综合性能好， 具有较大的推广应用价值。本专利技术是这样实现的以合金胚体的表面作为基面，通过抛光后在酒精溶液中用超声波清洗，再采用等离子体磁控溅射技术，选用钛扳作为阴扳(靶)，在沉积前，预溅射IOmin以清洗靶面，再以高频电压80V清洗基片 15min, Ar压强为IPa,当压强比N2/Ar = 3. 2%，沉积率约为5. 5um/h。本专利技术，其特征在于合金胚体表面产生TiN薄膜，TiN薄膜显微硬度达18500N/mm2，划刻临界负载达60N，溅射TiN薄膜镀层的电阻率为68 X 10_6 Ω · cm,盖板表面层应呈银白色，结合性好，无分层及脱皮现象，盖板经三次弯曲返回再弯曲)不起皮；盖板潮热试...
【技术保护点】
１．一种等离子磁控溅射法电器触头表面生产新方法，其特征在于采用合金材料为胚体，经等离子体磁控溅射法表面处理，其特征在于：所述等离子体磁控溅射法指采用胚体表面作为基面，通过抛光后在酒精溶液中用超声波清洗，磁控溅射时选用钛扳作为阴扳（靶）。
【技术特征摘要】
1.一种等离子磁控溅射法电器触头表面生产新方法，其特征在于采用合金材料为胚体，经等离子体磁控溅射法表面处理，其特征在于所述等离子体磁控溅射法指采用胚体表面作为基面，通过抛光后在酒精溶液中用超声波清洗，磁控溅射时选用钛扳作为阴扳 (靶)。2.根据权利要求1所述的一种等离子磁控溅射法电器触头表面生产新方法，其特征在于在沉积前，预溅射IOmin以清洗靶面，再以高频电压80V清洗基片15min，Ar压强为lPa， 当压强比乂/Ar = ...
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