碳纳米管装置及其制造方法制造方法及图纸

技术编号:6441182 阅读:141 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种碳纳米管装置,其包括一可挠性基板及位于该可挠性基板表面的碳纳米管,该可挠性基板表面具有若干凹槽,该碳纳米管生长在该若干凹槽内以在该可挠性基板的表面形成具有预定图案的碳纳米管层。与现有技术相比,本发明专利技术提供的该碳纳米管装置及其制造方法通过将生长在刚性基板上的碳纳米管转移到可挠性基板上,大大拓宽了碳纳米管的应用范围。本发明专利技术还涉及该碳纳米管装置的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
碳纳米管是日本科学家于1991年发现的一种碳的纤维状具有中空结构的一维纳 米新材料。理论和实验研究已证实了碳纳米管状结构材料有许多优秀和奇特的性能,如碳 纳米管的机械性能是自然界中所发现的材料中最高的,它的密度是钢的1/6倍,强度是钢 的100倍,而且碳纳米管不仅有很高的抗拉强度,还有很高的抗冲击韧性,这是一般材料不 能比拟的。碳纳米管的许多优秀性能都表现在轴线方向,如何使碳纳米管定向排列,充分利 用碳纳米管一维优秀性能一直是科研人员关注的重大研究课题之一。目前制造定向排列的碳纳米管膜主要有两种方法一种是在石英基板,硅基板和 耐高温金属材料等刚性基板上直接沉积出具有定向排列的碳纳米管阵列,这种方法制造的 薄膜虽然具有刚性和耐高温衬底,但恰恰是这一点严重限制了阵列式碳纳米管的应用范 围;另一种是将碳纳米管与聚合物复合成复合薄膜,这种复合薄膜中的碳纳米管位向随机 分布,采用切片方式,可以使一部分碳纳米管从膜中露出,使一部分碳纳米管在膜中同位向 分布,然而在这种复合薄膜中,由于碳纳米管的位向是随机分布,同时在复合材料混制过程 中,碳纳米管分散不均勻,将会使同位相分布的碳纳米管密度变小,而大大地影响碳纳米管 膜的使用性能。
技术实现思路
有鉴于此,提供一种具有可挠性基板的实为必要。一种碳纳米管装置,其包括一可挠性基板及位于该可挠性基板表面的碳纳米管, 该可挠性基板表面具有若干凹槽,该碳纳米管生长在该若干凹槽内以在该可挠性基板的表 面形成具有预定图案的碳纳米管层。一种碳纳米管装置的制造方法,其包括如下步骤提供一刚性基板,在该刚性基板 的表面形成有碳纳米管并使该碳纳米管在该刚性基板表面形成一预定图案;提供一可挠性 基板,该可挠性基板的表面具有若干凹槽,该若干凹槽所构成的形状与该刚性基板上碳纳 米管所形成的预定图案相对应;于该若干凹槽中填充光固化粘合剂;将该刚性基板与该可 挠性基板贴合,以使该碳纳米管与该光固化粘合剂充分接触;固化填充于该若干凹槽内的 光固化粘合剂以将该碳纳米管固定于该若干凹槽内;去除该刚性基板。与现有技术相比,本专利技术提供的该通过将生长在刚性 基板上的碳纳米管转移到可挠性基板上,大大拓宽了碳纳米管的应用范围,并且本专利技术所 提供的该碳纳米管装置能够根据实际需要来设定碳纳米管的排布方式,以此来适应各种不 同的工业需求。附图说明图1是本专利技术实施例所提供的该碳纳米管装置的结构示意图。图2是图1所示的该碳纳米管装置的制造流程示意图。元件符号说明本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种碳纳米管装置,其特征在于:其包括一可挠性基板及位于该可挠性基板表面的碳纳米管,该可挠性基板表面具有若干凹槽,该碳纳米管位于该若干凹槽内以在该可挠性基板的表面形成具有预定图案的碳纳米管层。

【技术特征摘要】
1.一种碳纳米管装置,其特征在于其包括一可挠性基板及位于该可挠性基板表面的 碳纳米管,该可挠性基板表面具有若干凹槽,该碳纳米管位于该若干凹槽内以在该可挠性 基板的表面形成具有预定图案的碳纳米管层。2.—种碳纳米管装置的制造方法,其包括如下步骤提供一刚性基板,在该刚性基板的表面形成有碳纳米管并使该碳纳米管在该刚性基板 表面形成一预定图案;提供一可挠性基板,该可挠性基板的表面具有若干凹槽,该若干凹槽所构成的形状与 该刚性基板上碳纳米管所形成的预定图案相对应; 于该若干凹槽中填充光固化粘合剂;将该刚性基板与该可挠性基板贴合,以使该碳纳米管与该光固化粘合剂充分接触; 固化填充于该若干凹槽内的光固化粘合剂以将该碳纳米管固定于该若干凹槽内; 去除该刚性基板。3.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:裴绍凯
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:94

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