【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及有机EL器件制造装置及有机EL器件制造方法以及成膜装置及成膜方 法，涉及洗净掩模并蒸镀基板上的有机EL器件制造装置及有机EL器件制造方法以及成膜 装置及成膜方法。
技术介绍
作为显示器件，有机EL器件受到关注，作为制造该器件的有力的方法有真空蒸镀 法。真空蒸镀法是使用掩模来形成元件图案的方法。元件图案如下形成，在真空腔内对蒸 镀材料进行加热而使其蒸发(升华)，并且如图4所示通过设置于要蒸镀的地方上的掩模的 开口部将蒸镀材料蒸镀在显示基板上。由于在掩模的开口部以外的地方会堆积蒸镀材料， 因此在进行一定张数的成膜后进行掩模的洗净。掩模的洗净方法采用湿式洗净方式，但由于需要处理时间、使用有机材料而环境 负荷增加、在微细图案上产生损伤、蒸镀材料的回收再利用比较困难之类的理由，开发出使 用激光光源的干式洗净方式。在专利文献1中公开如下
技术实现思路
，在进行蒸镀的成膜室(真 空腔)内进行干式洗净，在掩模上粘贴使激光透过的具有粘性的薄膜，透过薄膜照射激光， 将从掩模剥离的蒸镀材料的堆积物回收到薄膜中。专利文献1 日本特开2006-0169573号公报在有机EL器件制造...
【技术保护点】
一种成膜装置，在真空腔内进行基板与掩模的对准，具有将蒸镀材料蒸镀在上述基板上的真空蒸镀腔，其特征在于，具有：对附着于上述基板上的上述蒸镀材料的堆积物照射激光并对上述掩模进行干式洗净的掩模洗净室；设置在上述真空蒸镀腔与上述掩模洗净室的连接部上的真空隔离机构；以及在上述真空蒸镀腔与上述掩模洗净室之间通过上述真空隔离机构搬运上述掩模的搬运机构。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：弓场贤治，片桐贤司，井崎良，片冈文雄，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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