超低碳薄板金相样品的制备及组织显示方法技术

一种超低碳薄板金相样品的制备及组织显示方法，属于金相样品制备技术领域，包括的步骤为：试样的镶嵌、试样的磨制、试样的抛光和试样的侵蚀四个步骤。优点在于，操作简单，能够获得材料清晰的薄板组织图片，解决了超低碳薄板显示难的问题，适用于金相组织为纯铁素体的薄板。

Preparation and microstructure display method of metallographic sample for ultra low carbon sheet

Display method of preparation and organization of an ultra low carbon sheet metallographic sample, which belongs to the technical field of metallographic sample preparation, including the following steps: sample mosaic, sample grinding, polishing and sample specimen erosion in four steps. The utility model has the advantages that the operation is simple, the microstructure of the material can be obtained clearly, and the problem of difficult display of the ultra low carbon sheet is solved, which is suitable for the thin plate whose microstructure is pure ferrite.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于金相样品制备
，特别提供了一种超低碳薄板金相样品的制备 及组织显示方法。主要用于制备超低碳薄板的金相样品，适用于金相组织为纯铁素体的薄 板。
技术介绍
超低碳薄板如超低碳IF钢，采用先进的冶炼技术，降低钢种的含碳量 (< 0. 006% )，加入Ti、Nb元素固定C、N元素，从而得到无间隙原子的纯净铁素体钢。IF 中的铁素体钢具有优秀的深冲性能、优异的塑性应变比、好的延伸率及非时效性能，能满足 汽车工业对材料的轻量、耐蚀等综合性能的需要，是当前世界上最先进的汽车用钢板之一。超低碳薄板的铁素体组织硬度较低，在金相制样的磨制和抛光过程中容易出现划 痕，造成一些假象，给试样的观察带来很大困难。而且由于超低碳含量，纯铁素体的薄板的 组织侵蚀也比较困难。前人研究中曾用2% 4%的硝酸酒精溶液、三氯化铁+盐酸+水以 及硫酸铜+苦味酸+水等溶液对其纯铁素体组织进行侵蚀。结果发现，铁素体晶粒均不能 完全显示，图片模糊，不能照出高质量的清晰的图片。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，超低碳 (碳含量< 0. 006% )薄板金相样品的制备及组织，可以有效地制备超低碳薄板的金相试样 并显示组织。是一种操作方便，可有效显示超低碳薄板铁素体金相组织的技术。本专利技术样品制备及组织显示包括试样的镶嵌、试样的磨制、抛光和侵蚀，具体步骤 为a试样的镶嵌由于目前接触的薄板厚度大都在Imm左右，不方便直接用手拿着进 行制样，只能先进行试样的镶嵌。首先用蝴蝶夹将试样夹好(如图1)，摆放在镶样机的镶样 室内，按设备操作程序进行镶嵌。b试样的磨制把镶嵌好的试样在碳化硅砂纸上进行磨制，磨制时用水做润滑剂， 研磨盘转速为100 500转/分；试样先经800#粒度砂纸，磨制2 3分钟后，然后用水清 洗试样，接着依次换1200#粒度砂纸、1500#粒度砂纸和2000#粒度砂纸进行磨制；在磨制 时每换一次砂纸都要沿同一方向转动90度，并观察试样表面的研磨状态，保证研磨面的划 痕都在一个方向；C试样的抛光试样清洗以后，在以丝绒为抛光织布的抛光盘上进行抛光，抛光时 为金刚砂喷雾式抛光剂，抛光盘转速为900 1200转/分；抛光时先用粒度7 μ m的抛光剂 抛2 5分钟，然后用显微镜观察试样的抛光状态；再用水清洗试样，清洗干净后接着依次 换粒度3. 5 μ m、粒度1. 5μπι的抛光剂进行抛光；用显微镜观察，直到抛光面光洁、抛光面的 划痕都在一个方向为止；d试样的侵蚀将抛光好的试样放入腐蚀液中，浸蚀时间5 60秒，然后用水冲洗，再放入纯酒精中冲洗，吹干。所述的腐蚀液的配方为固体硫酸铜3 6g，盐酸10 30ml，蒸馏水10 30ml。本专利技术的优点在于样品制备方法简便，制备的样品清晰度高。解决了以前超低碳 薄板纯铁素体组织显示难和显示不清楚的问题。附图说明图丨蝴蝶夹持试样图。图2超低碳IF薄板的金相组织照片(200X)。图3超低碳IF薄板的金相组织照片(500X)。图4超低碳SDC06薄板的金相组织照片(200X)。图5超低碳SDC06薄板的金相组织照片(500X)。具体实施例方式实施例1超低碳IF钢的金相样品的制备及铁素体组织显示超低碳IF钢含碳量为0. 002%，其金相样品的制备及铁素体组织显示的步骤为a试样的镶嵌由于目前接触的薄板厚度大都在Imm左右，不方便直接用手拿着进 行制样，只能先进行试样的镶嵌。首先用蝴蝶夹将试样夹好(如图1)，摆放在镶样机的镶样 室内，按设备操作程序进行镶嵌。b试样的磨制把镶嵌好的试样在碳化硅砂纸上进行磨制，磨制时用水做润滑剂， 研磨盘转速为500转/分。试样先经800#粒度砂纸，磨制2、3分钟后，然后用水清洗试样， 接着依次换1200#粒度砂纸、1500#粒度砂纸和2000#粒度砂纸进行磨制。在磨制时每换一 次砂纸都要沿同一方向转动90度，并不断观察试样表面的研磨状态，保证研磨面的划痕都 在一个方向。C试样的抛光试样清洗以后，在以丝绒为抛光织布的抛光盘上进行抛光，抛光时 为金刚砂喷雾式抛光剂，抛光盘转速为900转/分。抛光时先用粒度7 μ m的抛光剂抛几 分钟，然后用显微镜观察试样的抛光状态。再用水清洗试样，清洗干净后接着依次换粒度 3. 5 μ m、粒度1. 5 μ m的抛光剂进行抛光。用显微镜观察，直到抛光面光洁、抛光面的划痕都 在一个方向为止。d试样的侵蚀将抛光好的试样放入腐蚀液中，浸蚀时间15秒，然后用水冲洗，再 迅速放入纯酒精中冲洗，吹干。腐蚀液的配方为固体硫酸铜4g，盐酸20ml蒸馏水IOml。如图2为得到的超低碳IF薄板的金相组织照片(200X)，图3为进一步放大倍数的 图片(500X)，可见每个晶粒的晶界显示地都比较清楚。并测得其晶粒尺寸约为13. 91 μ m。实施例2 超低碳SDC06薄板的金相样品的制备及铁素体组织显示超低碳SDC06薄板含碳量为0. 003%，其金相样品的制备及铁素体组织显示的步 骤为a试样的镶嵌由于目前接触的薄板厚度大都在Imm左右，不方便直接用手拿着进 行制样，只能先进行试样的镶嵌。首先用蝴蝶夹将试样夹好(如图1)，摆放在镶样机的镶样 室内，按设备操作程序进行镶嵌。b试样的磨制把镶嵌好的试样在碳化硅砂纸上进行磨制，磨制时用水做润滑剂， 研磨盘转速为500转/分。试样先经800#粒度砂纸，磨制2、3分钟后，然后用水清洗试样， 接着依次换1200#粒度砂纸、1500#粒度砂纸和2000#粒度砂纸进行磨制。在磨制时每换一 次砂纸都要沿同一方向转动90度，并不断观察试样表面的研磨状态，保证研磨面的划痕都 在一个方向。C试样的抛光试样清洗以后，在以丝绒为抛光织布的抛光盘上进行抛光，抛光时 为金刚砂喷雾式抛光剂，抛光盘转速为900转/分。抛光时先用粒度7 μ m的抛光剂抛几 分钟，然后用显微镜观察试样的抛光状态。再用水清洗试样，清洗干净后接着依次换粒度 3. 5 μ m、粒度1. 5 μ m的抛光剂进行抛光。用显微镜观察，直到抛光面光洁、抛光面的划痕都 在一个方向为止。d试样的侵蚀将抛光好的试样放入腐蚀液中，浸蚀时间35秒，然后用水冲洗，再 迅速放入纯酒精中冲洗，吹干。腐蚀液的配方为固体硫酸铜4g，盐酸20ml，蒸馏水20ml。如图4为得到的超低碳SDC06薄板的金相组织照片(200X)，图5为进一步放 大倍数的图片(500X)，可见每个晶粒的晶界显示地都比较清楚。并测得其晶粒尺寸为 12. 82 μ m。权利要求1.一种，包括试样的镶嵌、试样的磨制、抛 光和侵蚀；其特征在于，工艺步骤为a试样的镶嵌将试样夹好，摆放在镶样机的镶样室内，按设备操作程序进行镶嵌； b试样的磨制把镶嵌好的试样在碳化硅砂纸上进行磨制，磨制时用水做润滑剂，研磨 盘转速为100 500转/分；试样先经800#粒度砂纸，磨制2 3分钟后，然后用水清洗试 样，接着依次换1200#粒度砂纸、1500#粒度砂纸和2000#粒度砂纸进行磨制；在磨制时每 换一次砂纸都要沿同一方向转动90度，并观察试样表面的研磨状态，保证研磨面的划痕都 在一个方向；C试样的抛光试样清洗以后，在以丝绒为抛光织布的抛光盘上进行抛光，抛光时为金 刚砂喷雾式抛光剂，抛光盘转速为900 1200转/分；抛光时先用粒度7本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超低碳薄板金相样品的制备及组织显示方法，包括试样的镶嵌、试样的磨制、抛光和侵蚀；其特征在于，工艺步骤为：ａ试样的镶嵌：将试样夹好，摆放在镶样机的镶样室内，按设备操作程序进行镶嵌；ｂ试样的磨制：把镶嵌好的试样在碳化硅砂纸上进行磨制，磨制时用水做润滑剂，研磨盘转速为１００～５００转／分；试样先经８００＃粒度砂纸，磨制２～３分钟后，然后用水清洗试样，接着依次换１２００＃粒度砂纸、１５００＃粒度砂纸和２０００＃粒度砂纸进行磨制；在磨制时每换一次砂纸都要沿同一方向转动９０度，并观察试样表面的研磨状态，保证研磨面的划痕都在一个方向；Ｃ试样的抛光：试样清洗以后，在以丝绒为抛光织布的抛光盘上进行抛光，抛光时为金刚砂喷雾式抛光剂，抛光盘转速为９００～１２００转／分；抛光时先用粒度７μｍ的抛光剂抛２～５分钟，然后用显微镜观察试样的抛光状态；再用水清洗试样，清洗干净后接着依次换粒度３．５μｍ、粒度１．５μｍ的抛光剂进行抛光；用显微镜观察，直到抛光面光洁、抛光面的划痕都在一个方向为止；ｄ试样的侵蚀：将抛光好的试样放入腐蚀液中，浸蚀时间５～６０秒，然后用水冲洗，再放入纯酒精中冲洗，吹干。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓岚，温娟，刘卫平，李瑰珅，
申请(专利权)人：首钢总公司，
类型：发明
国别省市：11