折叠光学编码器及其应用制造技术

一种系统和方法被用于确定装置的参数（例如角度、位置、取向等）。第一部分包括辐射源，所述辐射源配置用以产生辐射束，所述辐射束被引导成从装置的反射部分反射。第二部分耦合到所述第一部分，并包括测量装置和可选的探测器，使得所述被反射的束透射通过所述测量装置到所述探测器上。基于所述被反射的束与所述测量装置的相互作用确定所述装置的参数。在一个示例中，第一和第二部分可以形成折叠光学编码器，其测量光刻设备内的扫描反射镜的角度或台的位置或取向。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学编码器，并且涉及该编码器在一种光刻设备和器件制造方法 中的示例性的应用。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底或衬底的一部分上的机器。例如，可以将 光刻设备用于制造平板显示、集成电路(ICs)以及其他包括精细结构的器件。在常规设备 中，可以将通常称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成与平板显示器(或其他器件) 的单个层一致的电路图案。可以通过成像到提供在衬底上的辐射敏感材料(例如光致抗蚀 剂)层上而将该图案转移到衬底(例如玻璃板)的全部或一部分上。代替电路图案，图案形成装置可以用于产生其他图案，例如滤色片图案或点阵。代 替掩模，图案形成装置可以是图案形成阵列，其包括单个可控元件的阵列。与基于掩模的系 统相比，在这种系统中可以更迅速地并且用更少的成本更换图案。平板显示器衬底通常是矩形形状。设计用以曝光这种类型衬底的光刻设备可以提 供覆盖矩形衬底整个宽度、或覆盖该宽度的一部分(例如宽度的一半)的曝光区域。可以 在曝光区域下面扫描衬底，同时同步地将掩模或掩模版扫描通过辐射束。在这种方式中，图 案被转移到衬底。如果曝光区域覆盖衬底的整个宽度，则可以用单次扫描完成曝光。如果 曝光区域例如覆盖衬底宽度的一半，则衬底可以在第一次扫描之后横向移动，并且通常实 施另一次扫描以曝光衬底的剩余部分。在无掩模光刻术中，图案形成装置保持静止，同时扫描反射镜用于将图案化的束 扫描到扫描衬底上。这与基于掩模的工具不同，在基于掩模的工具中图案形成装置和衬底 都移动。因此，对于无掩模系统，扫描反射镜的位置和/或取向需要位于预定的公差内，以 确保该图案化的束扫描到扫描衬底的目标部分上。为了将扫描反射镜保持在正确的位置 和/或取向，通常使用可以包括线性编码器的量测系统。束反射离开线性编码器的标尺 (scale)，其中该标尺耦合或形成到所述扫描反射镜上。被反射的束被接收在标尺上什么位 置处能够用于确定扫描反射镜的位置和/或取向。能够自动地(例如通过使用探测器)或 手动地(例如通过操作者的观察)确定被反射的束被接收在标尺上什么位置处。然而，如 果扫描反射镜例如由于温度改变或类似原因而变形，则可能标尺会变形，或标尺从扫描反 射镜脱离。这些情况中任一个都可以引起测量的错误。
技术实现思路
因此，需要一种使用编码器的系统和方法，其中测量标尺不直接与被测量的器件 相关。在本专利技术的一个实施例中，提供一种包括第一和第二部分的系统。第一部分包括 辐射源，所述辐射源配置用以产生辐射束，所述辐射束被引导成从装置的反射部分反射。第 二部分耦合到所述第一部分，并且包括测量装置和可选的探测器，使得所述被反射的束透射通过所述测量装置到所述探测器上。基于所述被反射的束与所述测量装置的相互作用确 定所述装置的参数。在一个示例中，第一和第二部分可以形成折叠的光学编码器，其测量光刻设备内 的扫描反射镜的角度或台的取向。在另一实施例中，提供一种器件制造方法，包括以下步骤。由辐射源产生的辐射束 被反射离开装置的反射部分。在所述被反射的束已经透射通过测量装置之后探测所述被反 射的束。基于探测步骤确定所述装置的参数。本专利技术其他实施例、特征和有益效果，以及本专利技术的不同实施例的结构和操作在 下文中参照附图进行详细描述。附图说明这里附图并入说明书并且形成说明书的一部分，用于示出本专利技术的一个或多个实 施例，并且和说明书一起进一步用来说明本专利技术的原理，以允许本领域技术人员能够实施 和使用本专利技术。图1和2示出根据本专利技术多个实施例的光刻设备；图3示出根据图2中示出的本专利技术的一个实施例的将图案转移到衬底的模式。图4示出根据本专利技术一个实施例的光引擎的布置。图5示出根据本专利技术一个实施例的替换的光刻设备。图6示出根据本专利技术一个实施例的线性编码器。图7示出根据本专利技术一个实施例的折叠线性编码器。图8示出根据本专利技术一个实施例的使用图7中的折叠线性编码器的光刻设备的一 部分。图9示出根据本专利技术一个实施例的示出方法的流程图。图10和11示出根据本专利技术不同实施例的用来使用图7中系统的一部分测量其参 数的示例器件。将参照附图描述本专利技术的一个或多个实施例。在附图中，相同的附图标记表示相 同或功能相似的元件。此外，附图标记的最左边的数字表示附图标记首先出现的附图。具体实施例方式本说明书公开一个或更多个包含或合并本专利技术特征的实施例。所公开的实施例仅 给出本专利技术的示例。本专利技术的范围不限于所公开的实施例。本专利技术由这里的权利要求限定。所述实施例和在说明书提到的“ 一个实施例”、“实施例”、“示例性实施例，，等表示 所述的实施例可以包括特定特征、结构或特性，但是，每个实施例可以不必包括特定的特 征、结构或特性。而且，这些段落不必指的是同一个实施例。此外，当特定特征、结构或特性 与实施例结合进行描述时，应该理解，无论是否明确描述，均在本领域技术人员所知的知识 中，从而可以实现将这些特征、结构或特性与其他实施例结合。图1示意地示出根据本专利技术一个实施例的光刻设备1。所述光刻设备包括照射 系统IL、图案形成装置PD、衬底台WT以及投影系统PS。照射系统(照射器)IL配置成调节 辐射束B (例如UV辐射)。图案形成装置PD (例如掩模版或掩模或独立可控元件阵列)调制所述束。通常， 独立可控元件阵列的位置相对于投影系统PS将是固定的。然而，其也可以替代地连接到配 置成根据特定参数精确地定位独立可控元件阵列的定位装置。衬底台WT构造成支撑衬底(例如，涂覆抗蚀剂的衬底)W并连接到配置成根据特 定参数精确地定位衬底的定位装置PW。投影系统(例如，折射投影透镜系统)PS配置成将由独立可控元件阵列调制的辐 射束投影到衬底W的目标部分C (例如包括一个或更多个管芯)上。照射系统可以包括多种类型的光学部件，例如折射、反射、磁性、电磁的、静电型的 或其他类型的光学部件，或其任意组合，用于引导、成形或控制辐射。这里所使用的术语“图案形成装置”或“对比度装置”应该被广义地理解为表示能 够用于调制辐射束的横截面、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。所述装置可 以是静止的图案形成装置(例如掩模或掩模版)或动态的(例如可编程元件阵列)图案形 成装置。为了简明，本说明书的大部分将针对动态的图案形成装置，然而，应该认识到，在不 脱离本专利技术的范围的情况下静止的图案形成装置也可以使用。应该注意，赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上所需的图案完全相符 (例如如果该图案包括相移特征或所谓辅助特征)。类似地，最终在衬底上产生的图案可能 与在任意时刻在独立可控元件阵列上形成的图案不一致。在下面的布置中可以是这样，即 在给定时间段上或在独立可控元件阵列的图案和/或衬底的相对位置改变期间的给定次 数的曝光过程中、完成形成在衬底的每个部分上的最终图案的布置中。通常，形成在衬底的目标部分上的图案将与在目标部分上形成的器件内的特定功 能层对应，例如集成电路或平板显示器(例如平板显示器中的滤色片层或平板显示器中的 薄膜晶体管)。这种图案形成装置的示例包括例如掩模版、可编程反射镜阵列、激光二极管 阵列、发光二极管阵列、光栅光阀以及LCD阵列。借助电子装置(例如计算机)图案是可编程的图案形成装置，例如包括多个可编 程元件的图案形成装置(例如在前面提到的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种系统，包括：包括辐射源的第一部分，所述辐射源配置用以产生辐射束，所述辐射束被引导以从装置的反射部分被反射；和耦合到所述第一部分的第二部分，所述第二部分包括测量装置和探测器，使得被反射的所述束透射通过所述测量装置到所述探测器上，由此，基于被反射的所述束与所述测量装置的相互作用来确定所述装置的参数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：CJ马松，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]