【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及聚胺及将其用于处理各种工业加工流体中 的污垢的方法。优选的实施方式涉及疏水性修饰的含Si聚胺，其被 发现在对难以处理的工业加工流体，例如Bayer氧化铅力口工流体、 核废物流体和牛皮纸磨坊流出流体中的铝石圭酸盐污垢进4亍处理时 特别有用。
技术介绍
污祐的形成是多种工业加工;克体中存在的问题。污祐 是通常形成于暴露至水性加工流体的设备表面的固体物质。污垢通 常包含水溶性相对较低的无机物质，包括，例如，各种水合硅紹酸 钠物质，例如无定形硅铝酸盐(如，硅铝酸盐水凝胶)，沸石，方 4内石详口 canerinites。通过才几+成方'法(侈'Ji口，通过刮P余)去P余污i后通 常不受欢迎，因为该种方法可涉及大量的停工费用，并且当污垢形 成于加工设备设备上难以纟妾近的表面时难以实施。 已开发一 系列的化学处理来去除和/或抑制各种工业加工流体中的污垢形成。该种4b学处理通常依靠将处理^匕学品和加工 流体混合，乂人而能够处理难以4妻近的表面，并减少或4非除4亭工期。 近几年来开发了一系列含si聚合物，并将其用于污垢处理。例如，参见美国专利6,814,873 ; ...
【技术保护点】
包含式（Ⅰ）的重复单元和式（Ⅱ）的重复单元的聚合物： ＊＊＊ 其中： Ｔ和Ｅ分别独立地为第一可选地取代的包含约２至约４０个碳的烃基； Ｑ为Ｈ或第二可选地取代的包含约１至约２０个碳的烃基； Ａ↑［１］和Ａ↑［２］ 分别独立地为直接的键或包含约１至约２０个碳的有机连接基团； Ｒ”＝Ｈ，可选地取代的Ｃ↓［１］－Ｃ↓［２０］烷基，可选地取代的Ｃ↓［６］－Ｃ↓［１２］芳基，可选地取代的Ｃ↓［７］－Ｃ↓［２０］芳烷基，可选地取代的Ｃ↓［２］－Ｃ↓［２０］ 烯基，Ⅰ族金属离子，Ⅱ族金属离子，或ＮＲ↑［１］↓［４］，其中每...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：霍华德I海特纳，唐纳德P斯皮策，
申请(专利权)人：氰特技术公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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