本发明专利技术涉及一种具有伯、仲或叔氨甲基芳环的化合物的制备方法，该制备方法是使用以下述式（Ⅰ）Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ－ＣＨ↓［２］－ＢＦ↓［３］Ｍ （Ⅰ）表示的氟硼化合物或其二聚物、或所述化合物或其二聚物的溶剂合物作为芳环的氨甲基化剂，在钯化合物等金属 催化剂存在下使所述氨甲基化剂和具有可与该氨甲基化剂反应的芳环的化合物发生反应，从而进行芳环的直接氨甲基化。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种氟硼化合物、及使用了该氟硼化合物的芳环氨曱基化 反应。其中，所述氟硼化合物作为一种氨曱基化剂，可有效地将伯、仲、 叔氨曱基直接导入到芳环上。本申请基于2006年7月11日在日本申请的特愿2006-190813号及2006 年7月11日在美国申请的US60/819628要求优先权，并在本申请中引用上 述专利中的内容。
技术介绍
具有氨甲基的芳环(以下也记作氨曱基芳环)结构被广泛应用于医药用 化合物，是一种具有高度产业实用性的化学结构。例如，在涉及新型抗真 菌剂的专利文献1中，公开了一种含有氨曱基芳环作为其化学结构的一部 分的化合物(以下也记作氨曱基芳香族化合物)。在含有氨曱基芳环的化合物 中，特别是具有伯氨曱基芳环的化合物，由于其经常被用作含有仲氨或叔 氨甲基芳环的化合物的前体，因此多种具有伯氨曱基芳环的化合物在市场 上作为试剂有售。作为获得具有氨甲基芳环化学结构化合物的方法，已有报道的传统方 法包括利用还原反应进行合成的方法、或使用具有含卣曱基芳环的化合物 作为前体进行合成的方法等。迄今为止，作为氨曱基芳环的构筑方法，通过使用金属催化剂将氨曱 基直接导入到氯代苯等芳香族卣化物基质中的反应尚未有报道。作为使用金属催化剂的氨曱基化反应，在非专利文献1中公开了利用 有机锡化合物对烯醇三氟曱基磺酸酯(enoltrifrate)进行磺酰氨曱基化反应。另外，在非专利文献2中公开了氨曱基氟硼化合物，此外，在非专利 文献3中公开了与氨曱基氟硼化合物具有相似结构的氨曱基硼化合物，但 至今仍没有关于使用这些化合物进行芳环氨曱基化反应的报道。专利文献1:国际公开WO2005/033079号小册子 非专利文献1: Org. Lett.， 2000, 2, 1081 非专利文献2: Org, Lett, 2006, 8， 2031 非专利文献3: J. Org. Chem., 1968, 33, 305
技术实现思路
本专利技术所要解决的问题在上述利用还原反应合成氨曱基芳环的方法中，存在的问题是，如果 使用的基质不适于还原反应，则很难以高产率获得目的化合物。另外，关 于使用具有卣代曱基的芳环作为前体进行的芳环氨曱基化法，由于存在由 所述前体自身的化学稳定性较差而引发的操作条件苛刻等问题点，因此在 其工业使用方面受到限制。进一步，除了上述问题以外，还期待在合成氨 甲基芳环时，可以使用廉价且市售试剂种类丰富的氯代苯等芳香族卣化物 作为其前体。在上述非专利文献1中公开的有机锡化合物由于其化学结构仅限于环 状磺酰胺，因此欠缺通用性。另外，该情况下可能引发有机锡化合物的毒 性问题，因此不适宜用于工业用途。在非专利文献2中，公开了几种氨甲基氟硼化合物，但没有任何关于 将这些化合物应用于芳环氨曱基化反应的记载或暗示。另外，在这些化合 物中，不包括被保护的伯氨曱基氟硼化合物。同样地，在上述非专利文献3中公开了用酰亚胺的保护伯氨甲基硼酸， 但没有任何关于将这些化合物应用于芳环氨曱基化反应的记载或暗示。综上，本专利技术的目的在于解决上述问题。即，本专利技术的目的在于提供一种化合物，该化合物可用作将伯、仲、 叔氨曱基直接导入到芳环中的高通用性反应剂；同时，提供由该化合物构 成的芳环氨甲基化剂、以及使用了该芳环氨甲基化剂的具有氨曱基芳环的 化合物的制备方法。 解决问题的手段本专利技术者等发现通过在金属催化剂存在下使氟硼化合物、或其二聚 物、或以上两者的溶剂合物与具有芳环的化合物发生反应，可以进行芳环 的氨曱基化反应；基于此，本专利技术者等完成了本专利技术。作为本专利技术涉及的氟硼化合物的具体方式，可列举以下式(I )表示的化 合物、或其二聚物、或以上两者的溶剂合物。Ra (Rb) N-CH2-BF3M ( I )上式中，Ra和Rb彼此独立地表示选自由氢原子、取代或未取代d—6 烷基、取代或未取代环烷基、取代或未取代杂环基、取代或未取代杂芳基、 取代或未取代芳基、取代或未取代芳烷基、及氨基的保护基组成的组的基 团；或者，上述Ra和Rb也可以和与其相连的氮原子共同形成氨基的保护 基；或者，上述Ra和Rb也可以和与其相连的氮原子共同形成任何含有1 个以上杂原子的取代或未取代杂环；M表示碱金属阳离子、+、或+,其 中，R1、 R2、 ！^及I^彼此独立地表示C,-6烷基或Cw5芳烷基。但是，其中， 正丁基氨曱基三氟硼酸钾、环己基氨曱基三氟硼酸钾、N-吡咯烷基曱基三 氟硼酸钾及N-哌啶基曱基三氟硼酸钾除外。不过，本专利技术的范围也包含使用正丁基氨曱基三氟硼酸钾、环己基氨 甲基三氟硼酸钾、N-p比咯烷基曱基三氟硼酸钾、及N-哌啶基曱基三氟硼酸 钾作为下述中记载的用于芳环氨曱基化反应的氨曱基化剂。在上述式(I )表示的化合物中，Ra和Rb优选彼此独立地表示选自由氬 原子、取代或未取代Cw烷基、及氨基的保护基组成的群的基团；或者，上 述Ra和Rb也优选和与其相连的氮原子共同形成氨基的保护基；上述Ra 和Rb也优选和与其相连的氮原子共同形成任何含有1个以上杂原子的取代 或未取代杂环。在上述式(I )表示的化合物中，Ra和Rb优选彼此独立地表示氢原子或 氨基的保护基。进一步，上述氨基的保护基优选为环状酰亚胺类保护基、酰胺类保护 基、或氨基曱酸酯类保护基，进一步优选为氨基曱酸酯类保护基。进一步，上述保护基优选为邻笨二曱酰基、曱酰基、或叔丁氧基羰基。 上述式(I )表示的化合物的二聚物的优选方式是以下述式(II)表示的化 合物或其溶剂合物。 8[上式中，Ra表示氢原子、取代或未取代d—6烷基、取代或未取代环烷 基、取代或未取代杂环基、取代或未取代杂芳基、取代或未取代芳基、取代或未取代芳烷基、或氨基的保护基；M表示碱金属阳离子、+、或+,其中，R1、 R2、 R3及R4彼此独 立地表示C,—6烷基或C7-15芳烷基。]在上述式(n)中，Ra优选为氨基的保护基。进一步，所述氨基的保护基优选为酰胺类保护基或氨基曱酸酯类保护 基，更优选为氨基甲酸酯类保护基。进一步，所述氨基的保护基优选为叔丁氧基羰基。作为以上述式(I )表示的化合物，优选以下述式(ni)表示的化合物或其溶剂合物。<formula>formula see original document page 9</formula>—、或+,其中，R1、 R2、 R3及R4彼此独立地表示Cw烷基或 CV,5芳烷基；X表示氢原子、Cw烷基或硝基。]在上述式(ni)中，所述x优选为氢原子。进一步，在以上述式(i)、 (ii)、 (m)表示的化合物或其二聚物、或所述化合物或其二聚物的溶剂合物中，所述M优选为碱金属阳离子。 上述中M优选为钾离子或钠离子。本专利技术进一步涉及一种芳环的伯、仲或叔氨曱基化剂，其中，所述氨 曱基化剂选自由氟硼化合物或其二聚物、或所述化合物或其二聚物的溶剂 合物组成的群。作为所述的氨甲基化，尤其可列举伯氨甲基化。 作为本专利技术的氨甲基化剂，可列举以上述式(I )表示的化合物。在作为氨曱基化剂使用、以上述式(I )表示的化合物中，优选Ra和/或 Rb为氢原子或氨基的保护基。氨曱基化剂中的所述氨基的保护基优选为环状亚酰胺类保护基、酰胺 类保护基、或氨基曱酸酯类保护基，进一步优选为氨基曱酸酯类保护基本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种以下述式（Ⅰ）表示的氟硼化合物或其二聚物、或者所述氟硼化合物或其二聚物的溶剂合物； Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ－ＣＨ↓［２］－ＢＦ↓［３］Ｍ （Ⅰ） 上式中，Ｒａ和Ｒｂ彼此独立地表示选自氢原子、取代或未取代的Ｃ↓［１－６］烷基、取代或 未取代的环烷基、取代或未取代的杂环基、取代或未取代的杂芳基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的芳烷基以及氨基的保护基中的基团；或者，上述Ｒａ和Ｒｂ与其所结合的氮原子共同形成氨基的保护基；或者，上述Ｒａ和Ｒｂ与其所结合的氮原子共同形成任意的且含有１个以上杂原子的取代或未取代的杂环； Ｍ表示碱金属阳离子、［Ｎ（Ｒ↑［１］）（Ｒ↑［２］）（Ｒ↑［３］）（Ｒ↑［４］）］↑［＋］、或［Ｐ（Ｒ↑［１］）（Ｒ↑［２］）（Ｒ↑［３］）（Ｒ↑［４］）］↑［＋］，其中，Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２ ］、Ｒ↑［３］及Ｒ↑［４］彼此独立地表示Ｃ↓［１－６］烷基或Ｃ↓［７－１５］芳烷基； 但是，其中，正丁基氨甲基三氟硼酸钾、环己基氨甲基三氟硼酸钾、Ｎ－吡咯烷基甲基三氟硼酸钾及Ｎ－哌啶基甲基三氟硼酸钾除外。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：田中圭悟，
申请(专利权)人：卫材RD管理有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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