含杂芳环的化合物、光学材料和光学元件制造技术

技术编号:7762457 阅读:239 留言:0更新日期:2012-09-14 14:39
本发明专利技术提供由下述通式(1)表示的含杂芳环的化合物和包括该含杂芳环的化合物的光学材料。通式(1)其中R1和R2各自独立地为氢原子或甲基,Ar1为可具有取代基的芳基,并且A为芳烃基团。R1和R2可为氢原子,并且Ar1可为苯基。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含杂芳环的化合物、光学材料和光学元件,尤其涉及含杂芳环的化合物、光学材料和光学元件,它们具有低的折射率的色散特性(阿贝数(Vd))和高的二次色散特性(eg,F)。
技术介绍
玻璃材料、有机树脂等光学材料的折射率通常随着波长变短而逐渐变高。表示折射率的波长色散的指数包括阿贝数(vd)和二次色散特性(0g,F)。阿贝数(vd)和二次色散特性(9g,F)是光学材料特有的值,但在多数情况下落在一定范围内。将常规光学材料的折射率和阿贝数(vd)示于图I中。阿贝数(V d)和二次色散特性(Θ g, F)由下式表示。 阿贝数=(nd-1) / (nF_nC)二次色散特性= (ng-nF) / (nF_nC)其中nd为波长587. 6nm下的折射率;nF为波长486. Inm下的折射率;nC为波长656. 3nm下的折射率;和ng为波长435. 8nm下的折射率。但是,通过详细地设计光学材料(玻璃材料、有机树脂等)的组成(材料种类和分子结构),从而合成具有远离上述一定范围的高二次色散特性(Θ g,F)的光学材料。例如,作为其二次色散特性(Θ g,F)高于通用有机树脂材料的有机树脂的聚乙烯基咔唑(图I中的A)。在折射光学系统中,通常通过将具有不同色散特性的玻璃材料组合来使色差减小。例如,在望远镜等的物镜中,将具有小色散的玻璃材料用作正透镜,并且将具有大色散的玻璃材料用作负透镜;并且通过将它们组合,将轴上出现的色差校正。因此,透镜的组成和数目受到限制的情况下,使用的玻璃材料受到限制的情况下,以及其他情况下,有时非常难以充分地校正色差。作为解决这样的问题的一个方法,通过采用具有反常色散特性的玻璃材料来进行光学元件的设计。在制备色差校正功能优异的具有非球面形状等的光学元件的情况下,与使用玻璃材料作为材料相比,在球面玻璃等上形成有机树脂在生产率、成型性、形状的多样性和重量减少上具有较好的优点。但是,常规的有机树脂的光学特性落在图I中所示的一定的有限范围内,因此存在非常少的显示特定色散特性的有机树脂。日本专利申请公开No. 2008-158361记载了光学树脂组合物,其中以预定比例将N-丙烯酰基咔唑、多官能聚酯丙烯酸酯、二羟甲基三环癸烷二丙烯酸酯和聚合引发剂混合。其记载了该光学树脂组合物是容易加工并且其固化物具有足够的反常色散和耐久性的材料。另一方面,为了与以往相比赋予光学元件较高的色差校正功能,本专利技术人已注意到具有较高二次色散特性(0g,F)的材料对于光学设计非常有效。具体地,图I中,该特性在范围B (vd〈25和0g,F>0. 73)内,其中vd与Θ g,F之间的关系远离玻璃材料或通用的有机树脂材料的曲线。但是,现在不存在二次色散特性(Θ g,F)在图I中的范围B内并且几乎不显示着色且能够稳定地制备的材料。日本专利申请公开No. 2008-158361中记载的材料都具有O. 70以下的9g,F值。引用列表专利文献PTL I :日本专利申请公开 No. 2008-15836
技术实现思路
鉴于这样的
技术介绍
,本专利技术提供含杂芳环的化合物和使用其的光学材料和光学元件,其具有低的折射率的色散特性(阿贝数(V d))、高的二次色散特性(0g,F)和高的色差校正功能的特性。解决上述问题的含杂芳环的化合物包括由下述通式(I)表示的化合物。通式(I)权利要求1.由下述通式(I)表示的含杂芳环的化合物 通式(I)2.根据权利要求I的含杂芳环的化合物,其中R1和R2是氢原子;并且Ar1是苯基。3.根据权利要求I或2的含杂芳环的化合物,其中该芳烃基团包含由下述通式(2)表示的结构 通式(2)4.根据权利要求I的含杂芳环的化合物,其中该芳烃基团包含由下述通式(3)表示的结构 通式(3)5.根据权利要求4的含杂芳环的化合物,其中通式(3)中的R3-R7是选自下述组合组中的一个组合=R3和R7为甲基,并且R4、R5和R6为氢原子;R3、R5和R7为甲基,并且R4和R6为氢原子;R3是甲基,并且R4、R5、R6和R7为氢原子;R3、R5和R6为甲基,并且R4和R7为氢原子;R3和R4为甲基,并且R5、R6和R7为氢原子;R3是异丙基,并且R4、R5、R6和R7为氢原子;R3和R5为Y,并且R4、R6和R7为氢原子;R3和R4为Y,并且R5、R6和R7为氢原子;R3为Y,并且R4、R5、R6和R7为氢原子;R3为Y,并且R4、R5和R7为氢原子,并且R6为甲基;R3和R7为甲基,并且R4和R6为氢原子,并且R5为Y ;R3为Y,并且R4和R6为叔丁基,并且R5和R7为氢原子;R3、R5和R7为Y,并且R4和R6为氢原子;R3、R4和R5为Y,并且R6和R7为氢原子;R3为Y,并且R4为甲基,并且R5、R6和R7为氢原子;R3为Y,并且R4为X,并且R5、R6和R7为氢原子;和R3为Y,并且R4为X,并且R5和R7为氢原子,并且R6为甲基。6.光学材料,包含根据权利要求I的含杂芳环的化合物。7.光学元件,通过将根据权利要求6的光学材料成型而制备。全文摘要本专利技术提供由下述通式(1)表示的含杂芳环的化合物和包括该含杂芳环的化合物的光学材料。通式(1)其中R1和R2各自独立地为氢原子或甲基,Ar1为可具有取代基的芳基,并且A为芳烃基团。R1和R2可为氢原子,并且Ar1可为苯基。文档编号C07D333/22GK102666524SQ20108005893公开日2012年9月12日 申请日期2010年12月16日 优先权日2009年12月28日专利技术者斋藤辉伸 申请人:佳能株式会社本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:斋藤辉伸
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1