硼化合物的制造方法技术

本发明专利技术提供一种硼化合物的制造方法。用新的制造方法制造式（3）表示的硼化合物。一种式（3）表示的硼化合物的制造方法，使式（1）表示的化合物与式（2）表示的化合物反应。式（1）中，R1、R2和R3各自独立地表示碳原子数1～20的烷基，R4表示碳原子数1～20的烷基或者可具有取代基的苄基，X－表示除氢氧根离子和醇盐离子之外的1价阴离子。式（2）中，R5各自独立地表示碳原子数1～20的烷基，M＋表示碱金属离子。式（3）中，R1、R2、R3、R4和R5表示与上述相同的意思。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
在非专利文献I中，作为还原剂，记载了四甲基三乙酰氧基硼氢化铵，作为其制造方法，记载了使四甲基氢化铵与硼氢化钠在水中反应而得到四甲基硼氢化铵，将所得的四甲基硼氢化铵脱水后，在非水体系中与乙酸反应的方法。 现有技术文献 非专利文献 非专利文献1:D.A.Evans, K.T.Chapman, and E.M.Carreira,“Directed Reduct1n ofβ-Hydroxy Ketones Employing TetramethylammoniumTriacetoxyborohydride”，J Am.Chem.Soc.1988, 110, 3560-3578
技术实现思路
寻求一种四甲基三乙酰氧基硼氢化铵等式(3)表示的化合物的新的制造方法。

【技术保护点】
一种式（3）表示的硼化合物的制造方法，使式（1）表示的化合物与式（2）表示的化合物反应，式（1）中，R1、R2和R3各自独立地表示碳原子数1～20的烷基，R4表示碳原子数1～20的烷基或者可具有取代基的苄基，X－表示除氢氧根离子和醇盐离子之外的1价阴离子，式（2）中，R5各自独立地表示碳原子数1～20的烷基，M＋表示碱金属离子，式（3）中，R1、R2、R3、R4和R5表示与上述相同的意思。

【技术特征摘要】
2013.03.29 JP 2013-0716521.一种式(3)表不的硼化合物的制造方法,使式(I)表不的化合物与式(2)表不的化合物反应，式(I)中，R1、R2和R3各自独立地表示碳原子数I~20的烷基，R4表示碳原子数I~20的烷基或者可具有取代基的苄基，X—表示除氢氧根离子和醇盐离子之外的I价阴离子，式(2)中，R5各自独立地表不碳原子数I~20的烷基，M +表不碱金属离子，式(3)中，R1、R2、R3、R4和R5表示与上述相同的意思。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，R4是碳原子数I~20的烷基或者苄基。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，通过使式(4)表示的化合物与式(5)表示的化合物反应，得到式(2)表示的化合物,再使所得的式(2)表示的化合物与式(I)表示的化合物反应，式(4)中，M+表不碱金属离子，式(5)中，R5表示碳原子数I~20的烷基。4.一种式(3)表示的硼化合物的制造方法，使式(I)表示的化合物、式(4)表示的化合物和式(5)表示的化合物反应，式(I)中，R1、R2和R3各自独立地表示碳原子数I~20的烷基，R4表示碳原子数I~20的烷基或者可被取代的苄基，X—表示除氢氧根离子和醇盐离...

【专利技术属性】
技术研发人员：河村充展，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP