自清洁装置及基板处理设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种自清洁装置及基板处理设备，其中的自清洁装置包括：漏液接收槽、第一移动部件和第二移动部件，以及用于对所述漏液接收槽内的漏液进行清洗的清洗部件；所述漏液接收槽的底部设置有排泄漏口；所述第一移动部件和第二移动部件分别沿所述漏液接收槽的相对两侧边设置；所述清洗部件的两端分别连接所述第一移动部件和第二移动部件；所述清洗部件还连接清洗物质供应导管。本实用新型专利技术实现了自动、快速的解决设备泄漏，减少了药液对人体的危害，降低了设备停机维护的时间，提高了漏液处理的效率。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶显示器制造设备，特别涉及一种自清洁装置及基板处理设 备。
技术介绍
在液晶显示器的制造过程中，会用到大量的液体物质，例如水、药液等。上述液体 物质是通过管道运输到基板处理设备的各个功能槽中，进而对基板等产品进行物理或化学 处理。在这一过程中，由于长期的压力和腐蚀作用，管道或功能槽出现泄露的现象时有发 生。现有技术中通常是采用人工清洁方式，由清理人员用水对泄露的液体物质进行清洗，再 利用无尘布擦干。但是，上述的现有技术存在以下技术缺陷一方面，人工手动清洁方式清理时间较 长，导致设备停机时间久，生产效率降低；另一方面，对基板进行处理的液体物质大多是强 酸碱、强毒害性液体，处理时对清理人员身体危害极大。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种自清洁装置及基板处理设备，以解决人工清洁泄露 液体时效率低且对人体危害大的问题，实现对泄露液体物质的自动清洁。本技术提供一种自清洁装置，包括漏液接收槽、第一移动部件和第二移动部 件，以及用于对所述漏液接收槽内的漏液进行清洗的清洗部件；所述漏液接收槽的底部设置有排泄漏口 ；所述第一移动部件和第二移动部件分别 沿所述漏液接收槽的相对两侧边设置；所述清本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自清洁装置，其特征在于，包括：漏液接收槽、第一移动部件和第二移动部件，以及用于对所述漏液接收槽内的漏液进行清洗的清洗部件；　　所述漏液接收槽的底部设置有排泄漏口；所述第一移动部件和第二移动部件分别沿所述漏液接收槽的相对两侧边设置；所述清洗部件的两端分别连接所述第一移动部件和第二移动部件；所述清洗部件还连接清洗物质供应导管。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴健，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[]