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本实用新型提供一种自清洁装置及基板处理设备，其中的自清洁装置包括：漏液接收槽、第一移动部件和第二移动部件，以及用于对所述漏液接收槽内的漏液进行清洗的清洗部件；所述漏液接收槽的底部设置有排泄漏口；所述第一移动部件和第二移动部件分别沿所述漏液接...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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