一种光刻胶清洗剂制造技术

技术编号:5383051 阅读:162 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种光刻胶清洗剂,其含有:氢氧化钾、二甲基亚砜、季戊四醇和醇胺。该光刻胶清洗剂可有效除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶和其它残留物,同时对于Cu(铜)等金属具有较低的蚀刻速率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘兵彭洪修史永涛
申请(专利权)人:安集微电子上海有限公司
类型:发明
国别省市:31

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