正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法技术

本发明专利技术涉及一种正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法。该正型放射线敏感性树脂组合物的放射线灵敏度、显影裕度高，而且可以形成耐热性、耐溶剂性、低介电性、光线透过率、耐光性、耐干蚀性优异的层间绝缘膜。该正型放射线敏感性树脂组合物包含［Ａ］具有受阻胺结构和／或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及［Ｂ］１，２－醌二叠氮化合物。［Ａ］成分优选为由（ａ１）包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体，以及（ａ２）包含选自下述式（１）所示的化合物、下述式（２）所示的化合物或下述式（３）所示的化合物中的一种以上的单体得到的共聚物。［Ａ］成分可以是由除了上述（ａ１）和（ａ２）的化合物以外，还包含（ａ３）含环氧基的不饱和化合物的单体得到的共聚物。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及正型放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的层间绝缘膜、以及 该层间绝缘膜的形成方法，该正型放射线敏感性树脂组合物适合作为用于形成液晶显示元 件(LCD)等的层间绝缘膜的材料。
技术介绍
薄膜晶体管(以下，记为“TFT”)型液晶显示元件、磁头元件、集成电路元件、图像 传感器等电子部件中，一般设置层间绝缘膜以使层状配置的布线间绝缘。作为形成层间绝 缘膜的材料，优选得到必要的图案形状的工序数少，而且具有足够平整性，所以广泛使用正 型放射线敏感性树脂组合物(参照专利文献1)。上述电子部件中，例如TFT型液晶显示元件经过在层间绝缘膜上形成透明电极 膜，在其上形成液晶取向膜的工序制造。制造这种TFT型液晶显示元件时，层间绝缘膜由于 在形成透明电极膜的工序中暴露在高温条件下，或者暴露在形成电极的图案使用的抗蚀剥 离液中，或者暴露在各种波长的光中，所以必须有足够的耐热性、耐溶剂性和耐光性。另外， 由于层间绝缘膜还有可能进行干蚀工序，所以必须对干蚀有足够的耐受性(参照专利文献 2和专利文献3)。另外，近年来TFT型液晶显示元件有大画面化、高亮度化、高精度化、高速响应化、 薄型化等趋势本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种正型放射线敏感性树脂组合物，其包含：［Ａ］具有受阻胺结构和／或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及［Ｂ］１，２－醌二叠氮化合物。

【技术特征摘要】
JP 2009-10-28 2009-2483321.一种正型放射线敏感性树脂组合物，其包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及[B]1,2-醌二叠氮化合物。2.根据权利要求1所记载的正型放射线敏感性树脂组合物，其中[A]碱可溶性树脂为 由(al)包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体，以及(^)包含选自下 述式(1)所示的化合物、下述式( 所示的化合物或下述式C3)所示的化合物中的一种以 上的单体得到的共聚物，3.根据权利要求2所记载的正型放射线敏感性树脂组合物，其中[...

【专利技术属性】
技术研发人员：村田惠，荒井雅史，花村政晓，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]