珠体饰品的研磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术是有关于一种珠体饰品的研磨装置，包括有：一挟持单元，具有一对可转动的挟持臂，用以挟持一珠体饰品，并使珠体饰品转动：以及一研磨单元，相邻设置于挟持单元，研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构，用以依序对珠体饰品的表面进行研磨，而获得一品质稳定均一的珠体饰品。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种研磨装置，特别是涉及一种珠体饰品的研磨装置。
技术介绍
图1绘示一般珠体饰品的外观示意图。一般珠体饰品300具有一球形表面310，其一相对侧通常具有一相对的侧平面320，该等侧平面之间相互贯穿而形成一穿孔330。依此，一穿绳可串穿多数的珠体饰品300而形成例如手环、项链或吊环等饰件。在制作上述珠体饰品300时，一般是先制成珠体胚体，再在胚体表面进一步研磨，使其光亮细致，而形成一用来装饰用的珠体饰品300。对于珠体饰品300表面的研磨，现有习知是以手指握持珠体饰品300的两侧平面320，再以研磨工具对珠体饰品300的球形表面逐步进行研磨。然而此种研磨方式，其生产速度慢，且其稳定性不佳，表面研磨的效果不佳，无法获得品质稳定的珠体饰品300。由此可见，上述现有的珠体饰品的研磨方式显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型的珠体饰品的研磨装置，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。
技术实现思路
本技术的目的在于，克服现有的珠体饰品的研磨方式存在的缺陷，而提供一种新型的珠体饰品的研磨装置，所要解决的技术问题是使其可快速对珠体饰品的表面进行稳定研磨，而获得品质稳定均一的珠体饰品，非常适于实用。本技术的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本技术提出的一种珠体饰品的研磨装置，其包括有：一挟持单元，包含有一对可转动的挟持臂，用以挟持一珠体饰品，并使珠体饰品转动：以及一研磨单元，相邻设置于挟持单元，研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构，用以依序对珠体饰品的表面进行研磨。依所设的挟持单元及研磨单元，可快速对珠体饰品的表面进行稳定的研磨，而获得品质稳定均一的珠体饰品。本技术的目的以及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。根据本技术的一实施例，挟持单元进一步包括有：一第一架体，立设于一固定体上；一座体，组设于第一架体，且座体与第一架体之间设有一升降机构；一平台，组设于座体的顶面，且平台与座体之间设有一水平移动机构；一避震轴承，装设于平台，避震轴承的相对侧分别设有一支持臂与一承载臂，支持臂的端部的两侧延伸设有上述一对挟持臂，其包括相隔离的一第一挟持臂与一第二挟持臂，承载臂的端部与平台之间则设有一制震弹簧；珠体马达，装设于承载臂，珠体马达的输出轴经一传动皮带传动至第一挟持臂。依此-->使得珠体饰品可被挟持及转动，并可水平移动及上下升降，且在研磨时，避免产生过度的震动。根据本技术的一实施例，第二挟持臂可以轴向伸缩，而用以与第一挟持臂共同挟持或放开珠体饰品。根据本技术的一实施例，升降机构是在第一架体的顶面与座体的底面之间设有一直向汽缸，使得座体可相对于第一架体而上下升降。根据本技术的一实施例，水平移动机构在座体的顶面的两侧各设有一水平轴向延伸的导轨，而平台的底面设有与导轨相配应的导槽，且座体与平台的内面之间设有一水平轴向汽缸，使得平台可相对于座体作左右横向的水平位移。根据本技术的一实施例，直向汽缸设有一高度限位调节螺杆，用以限制座体的升降高度。根据本技术的一实施例，座体的端部延伸设有一左右限位调节螺杆，用以限制平台左右横向水平位移的距离。根据本技术的一实施例，第一与第二研磨机构各装设于一第二架体，其立设于一固定体上，每个研磨机构各包括有：一研磨马达，装设于第二架体；一驱动轮，枢设于研磨马达的输出轴；一研磨轮，枢设于第二架体，并相邻于驱动轮，且研磨轮具有配应于珠体饰品的表面的弧形内壁；一调整轮，组设于第二架体，并与驱动轮相分隔，且调整轮与第二架体之间设有一位置调节机构，用以调节调整轮及其上的研磨带的位置；以及一研磨带，绕设于驱动轮、研磨轮以及调整轮的外周之间。研磨马达带动驱动轮转动，进而带动研磨带绕转，以对珠体饰品的表面进行研磨。根据本技术的一实施例，研磨轮的弧形内壁为弹性弧形内壁，以利于经由研磨带而与珠体饰品的表面弹性接触，而利于研磨。根据本技术的一实施例，位置调节机构包括有：一紧度调节螺杆，设于第二架体；一L形调节臂，具有直角相连的一第一臂与一第二臂，其中第一臂穿设于第二架体所设的一第一穿孔环，第一臂的端部并与紧度调节螺杆相抵顶，第二臂设有一第二穿孔环；一凸柱板，具有直角相连的一柱体与一板体，柱体穿设于L形调节臂的第二穿孔环；一安装座，组设于凸柱板的板体，安装座设有一ㄇ形本体、至少一轴体、以及穿设于轴体的滑块，调整轮设于滑块。依此调节研磨带的紧度及其前后方向的位置。根据本技术的一实施例，凸柱板的板体的上、下位置分别设有至少一倾斜度上调节螺丝与至少一倾斜度下调节螺丝，而据以调节调整轮及其研磨带的倾斜度。根据本技术的一实施例，安装座的滑块与ㄇ形本体的内壁之间设有一弹簧，而ㄇ形本体于远离弹簧的一端设有一迫紧把手，以迫动滑块相对于弹簧呈一抵紧状态，以固定安装座及其上调整轮的位置。根据本技术的一实施例，第一穿孔环、第二穿孔环、以及凸柱板的板体各设有至少一固定螺丝，用以固定其相关的机件。本技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本技术珠体饰品的研磨装置至少具有下列优点及有益效果：1、本技术的研磨装置，其设置上、下相邻的第一研磨机构210与第二研磨机构，可增长单独使用单一研磨机构的研磨带的使用寿命；而且第一与第二研磨机构的的研-->磨带可分别使用不同号数(细度)的砂纸研磨带，而可在同一研磨装置上依序同时完成不同细度的研磨，其操作简捷便利，且可使得珠体饰品的表面获得均衡的研磨。2、本技术的研磨装置，依所设的挟持单元及研磨单元，可快速对珠体饰品的表面进行稳定的研磨，而获得品质稳定均一的珠体饰品。综上所述，本技术一种珠体饰品的研磨装置，包括有：一挟持单元，具有一对可转动的挟持臂，用以挟持一珠体饰品，并使珠体饰品转动：以及一研磨单元，相邻设置于挟持单元，研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构，用以依序对珠体饰品的表面进行研磨，而获得一品质稳定均一的珠体饰品。本技术在技术上有显著的进步，并具有明显的积极效果，诚为一新颖、进步、实用的新设计。上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。附图说明图1绘示一般珠体饰品的外观示意图。图2绘示依照本技术一实施方式的珠体饰品的研磨装置的外观示意图。图3绘示图2所示研磨装置其中挟持单元的放大图。图4绘示图3所示挟持装置其中A部的放大图。图5绘示图2所示研磨装置其中研磨单元的放大图。图6绘示图5所示研磨单元其中研磨轮的外观示意图。图7绘示图6所示研磨轮的侧视图，并显示其研磨珠体饰品的表面时的示意图。图8绘示图5所示研磨装置其中由背面所视的位置调节机构的一部分的外观示意图。图9绘示图8所示位置调节机构另一部分的外观示意图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种珠体饰品的研磨装置，其特征在于其包括：一挟持单元，包含有一对可转动的挟持臂，用以挟持一珠体饰品，并使该珠体饰品转动：以及一研磨单元，相邻设置于该挟持单元，该研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构，用以依序对该珠体饰品的表面进行研磨。

【技术特征摘要】
1.一种珠体饰品的研磨装置，其特征在于其包括：一挟持单元，包含有一对可转动的挟持臂，用以挟持一珠体饰品，并使该珠体饰品转动：以及一研磨单元，相邻设置于该挟持单元，该研磨装置包含有上、下相邻设置的一第一研磨机构与一第二研磨机构，用以依序对该珠体饰品的表面进行研磨。2.根据权利要求1所述的珠体饰品的研磨装置，其特征在于其中所述的挟持单元进一步包括有：一第一架体，立设于一固定体上；一座体，组设于该第一架体，且该座体与该第一架体之间设有一升降机构；一平台，组设于该座体的顶面，且该平台与该座体之间设有一水平移动机构；一避震轴承，装设于该平台，该避震轴承的相对侧分别设有一支持臂与一承载臂，该支持臂的端部的两侧延伸设有该对挟持臂，该承载臂的端部与平台之间设有一制震弹簧；该对挟持臂，包括相隔离的一第一挟持臂与一第二挟持臂，一珠体马达，装设于该承载臂，该珠体马达的输出轴经一传动皮带传动至该第一挟持臂。3.根据权利要求2所述的珠体饰品的研磨装置，其特征在于其中所述的第二挟持臂为轴向伸缩，而用以与第一挟持臂共同挟持或放开该珠体饰品。4.根据权利要求3所述的珠体饰品的研磨装置，其特征在于其中所述的升降机构在该第一架体的顶面与座体的底面之间设有一直向汽缸。5.根据权利要求4所述的珠体饰品的研磨装置，其特征在于其中所述的水平移动机构在该座体的顶面的两侧各设有一水平轴向延伸的导轨，而该平台的底面设有与该导轨相配应的导槽，且该座体与该平台的内面之间设有一水平轴向汽缸。6.根据权利要求4所述的珠体饰品的研磨装置，其特征在于其中所述的直向汽缸设有一高度限位调节螺杆。7.根据权利要求5所述的珠体饰品的研磨装置，其特征在于其中所述的座体的端部延伸设有一左右限位调节螺杆。8.根据权利要求1至7中任一...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨骐铭，
申请(专利权)人：苏澳昂渥有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]