用于制备合成石英玻璃的方法技术

在一种已知的用于制备合成石英玻璃的外淀积方法，将非晶态石英玻璃粉颗粒（１３）供入反应区（１２），该石英玻璃粉颗粒（１３）在反应区（１２）中经加热并淀积在围绕旋转轴旋转的载体（１０）的外侧上。为了从该方法出发提供特点在于高的淀积效率的方法，本发明专利技术建议，将粒度至少为３μｍ的非晶态石英玻璃粉颗粒与含硅起始物质（１４）一起供入反应区（１２）中，该含硅起始物质（１４）在反应区中转变成ＳｉＯ２颗粒，该ＳｉＯ２颗粒以与石英玻璃粉颗粒一起共淀积的方式沉积在载体上以形成含ＳｉＯ２的层（１１），其中该石英玻璃粉颗粒（１３）占ＳｉＯ２的重量份额为３０％－９５％。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及一种，其中将非晶态石英玻璃粉颗粒供 入反应区，该石英玻璃粉颗粒在该反应区中经加热并沉积在载体上。
技术介绍
已知许多用于制备高纯合成石英玻璃的方法，这些方法中，由含硅起始物质以 CVD-方法通过水解和/或氧化产生SiO2颗粒，并将该颗粒沉积于载体上。这些方法可区分 为外淀积法和内淀积法。外淀积法中是将SiO2颗粒施加到旋转载体的外侧。作为实例可 提及所谓的OVD-法(外侧气相沉积法)、VAD-法(气相轴向沉积法)或PECVD-法(等离 子体增强化学气相沉积法)。内淀积法的最熟知的实例是MCVD-法(改良型化学气相沉积 法)，该方法中是在外加热的管子的内壁淀积SiO2颗粒。在火焰水解中，例如将蒸气形式的SiCl4与氧和氢一起供入燃烧器火焰中，在其中 经水解和氧化形成SiO2颗粒。将该SiO2颗粒淀积在沉积面上形成多孔的所谓的“烟灰体”， 在另一分开的方法步骤中通过烟灰体的玻璃化得到石英玻璃构件，或该SiO2颗粒在淀积于 沉积面上时直接经玻璃化制成石英玻璃构件(该方法也称为“直接玻璃化法”)。在通过火焰水解的CVD-淀积以及等离子体_辅助CVD-淀积中，从所用原料收率 和能量看主本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于制备合成石英玻璃的外淀积方法，其中将非晶态石英玻璃粉颗粒（１３）供入反应区（１２），该非晶态石英玻璃粉颗粒（１３）在反应区（１２）中经加热并淀积在围绕旋转轴旋转的载体（１０）外侧上，其特征在于，粒度至少为３μｍ的非晶态石英玻璃粉颗粒（１３）与含硅起始物质（１４）一起供入反应区（２）中，该含硅起始物质（１４）在反应区（２）中转变成ＳｉＯ↓［２］颗粒，该ＳｉＯ↓［２］颗粒以与石英玻璃粉颗粒（１３）一起共淀积的方式沉积在载体（１０）上，以形成含ＳｉＯ↓［２］层（１１），其中该石英玻璃粉颗粒（１３）占ＳｉＯ↓［２］的重量份额为３０％－９５％。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：W韦德克，
申请(专利权)人：赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司，
类型：发明
国别省市：DE[]