聚硅氧烷、丙烯酸系化合物及乙烯系化合物制造技术

本发明专利技术的聚硅氧烷，包含由化学式３５［化学式３５］（式中，Ｒ１、Ｒ２以及Ｒ３分别为独立的碳数量为１～６的烃基，ｍ为２～６的整数）表示的官能团、酯键或酰胺键、间隔基及硅原子顺序结合的构成单位。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种聚硅氧烷、聚硅氧烷的制造方法、丙烯酸系化合物、丙烯酸系化合 物的制造方法、丙烯酸系聚合物、乙烯系化合物、乙烯系化合物的制造方法、表面改性剂及 表面改质方法。
技术介绍
目前，具有磷酰胆碱基(phosphorylcholine)的高分子作为生体适合性高分子为 人们所知，用这种高分子包覆各种树脂材料的生体适合性材料也被人们所知。日本专利公开平7-118123号公报(专利文献1)中公开了化妆品用粉体，该化妆 品用分体通过使用将2-甲基丙烯酰氧基乙基磷酰胆碱作为一个单体进行聚合而得到的聚 合体包覆粉体而得到。日本专利公开2000-279512号公报(专利文献2)中公开了在基材表面形成有被 覆层的医疗用材料，该被覆层由以侧链上具有磷酰胆碱类似基团的单体、具有可以与肝素 (heparin)或肝素衍生物结合的基团的单体为基础的共聚物和肝素或肝素衍生物构成。此外，日本专利公开2002-98676号公报(专利文献3)中公开了至少在表面具有 磷酰胆碱类似基团的分离材，通过表面的X线光电子分光分析而测定的光谱中，源于磷酰 胆碱类似基团的磷元素的量P和碳元素的量C之间的比(P/C)为0.本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：隅田如光，宫泽和之，
申请(专利权)人：株式会社资生堂，
类型：发明
国别省市：JP