【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种光学镀膜机超净台。
技术介绍
射频磁控溅射是一种溅射镀膜法，它对阴极溅射中电子使基片温度上升过 快的缺点加以改良。射频溅射的质量受到预抽真空度、溅射时的氩气压强、溅 射功率、溅射时间、衬底温度等因素的影响，要想得到理想的溅射膜，必须优 化这些影响因素。另外一个方面，对于光学产品的薄膜要求另外一个重要方面就是产量大， 成本低。此种方法对环境要求非常的高，对于室内1级光洁度要求非常的严格， 由此造成了成本极高。
技术实现思路
针对现有技术中的上述缺陷和问题，本技术的目的是提出一种光学镀 膜机超净台，能够在室内环境不佳的情况下获得超净环境，从而降低射频磁控 溅射法的成本。为了达到上述目的，本技术提出一种光学镀膜机超净台，包括超净台 本体，所述超净台本体设有一个或一个以上可开合的门以通入超净气体，所述超净台本体还包括可开合的出气口；所述门及出气口闭合时与所述超净台本体 气密封。作为上述技术方案的优选，所述出气口设置于所述超净台本体的下部，所 述出气口设有可开合的格栅，所述格栅闭合并能够在所述门的超净气体驱动下 打开。本技术提出了一种光学镀膜机超净台，包括超净台本体，所述超净台 本体设有一个或一个以上可开合的门以通入超净气体，所述超净台本体还包括可开合的出气口；所述门及出气口闭合时与所述超净台本体气密封。本技术提出的超净台，能够通过可开合的门吹入超净气体，并使超净气体能够从可 开合的出气口吹出，从而使超净台内达到1级光洁度要求。这样可以降低射频 磁控溅射的工作室中的清洁度要求，只在工作台上设置一个超净台，在超净台 中实现1级光洁度要求，从而降低成本。附图说...
【技术保护点】
一种光学镀膜机超净台，其特征在于，包括超净台本体，所述超净台本体设有一个或一个以上可开合的门以通入超净气体，所述超净台本体还包括可开合的出气口；所述门及出气口闭合时与所述超净台本体气密封。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王冬，胡卫东，
申请(专利权)人：北京嘉东科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]
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