透射模式中的干涉式调制器制造技术

本发明专利技术揭示一种透射性微机械装置，其包括：衬底；光学堆叠，其位于所述衬底上；及可移动薄膜，其位于所述光学堆叠上。所述可移动薄膜可包括部分反射镜且经配置以从第一位置移动到第二位置。当所述可移动薄膜处于所述第一位置时，所述透射性微机械装置经配置以传递具有预定色彩的光，且当所述可移动薄膜处于所述第二位置时，所述微机械装置经配置以阻挡大体上所有入射于所述衬底上的光。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的领域涉及微机电系统(“MEMS”)。
技术介绍
微机电系统(MEMS)包括微机械元件、激活器及电子设备。可使用沉积、蚀刻及/ 或其它蚀刻掉衬底及/或沉积材料层的部分或添加层以形成电及机电装置的微机械加工 工艺来产生微机械元件。一种类型的MEMS装置被称为干涉式调制器。在本文中使用时，术 语干涉式调制器或干涉光调制器意指使用光学干涉原理选择性地吸收及/或反射光的装 置。在某些实施例中，干涉式调制器可包括一对导电板，其中的一者或两者可整体或部分地 是透明及/或反射的，且能够在施加适当电信号后发生相对运动。在特定实施例中，一个板 可包括沉积在衬底上的固定层，且另一板可包括通过气隙与固定层分离的可移动薄膜。如 本文更详细描述，一个板相对于另一板的位置可改变入射在干涉式调制器上的光的光学干 涉。所述装置具有广泛应用，且利用及/或修改这些类型装置的特性使得其特征可用以改 进现有产品和产生尚未开发的新产品在此项技术中将是有利的。
技术实现思路
在一个方面中，一种透射性微机械装置包括衬底；光学堆叠，其位于所述衬底 上；及可移动薄膜，其位于所述光学堆叠上，其中所述可移动薄膜包括部分反射镜，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透射性微机械装置，其包含：衬底；光学堆叠，其位于所述衬底上；以及可移动薄膜，其位于所述光学堆叠上，所述可移动薄膜包含部分反射镜，所述可移动薄膜经配置以从第一位置移动到第二位置，其中在所述可移动薄膜处于所述第一位置的情况下，所述透射性微机械装置经配置以传递具有预定色彩的光，且其中在所述可移动薄膜处于所述第二位置的情况下，所述微机械装置经配置以阻挡大体上所有入射于所述衬底上的光。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏耶普拉卡什甘蒂，卡斯拉哈泽尼，杰弗里B桑普塞尔，
申请(专利权)人：高通MEMS科技公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]