【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体制造，特别是涉及一种光刻机循环水箱系统。
技术介绍
1、光刻机是半导体制造中的关键设备之一。光刻机在日常运行中会产生大量的热，如果不对其温度进行管控，过高的温度会影响曝光后的晶圆上的线宽及套刻精度，从而产生大量不合格晶圆产品。
2、光刻机循环水箱系统可以对光刻机进行降温。传统的光刻机循环水箱系统的冷却水是由供水装置供应，为了保证光刻机的内部零部件有恒定的温度，需要控制冷却水的温度不发生较大的波动。但是在光刻机工作的过程中，不可避免的会突发意外出现供水装置供应水温异常的情况，导致光刻机内部水温变化，影响到晶圆产品的制备。
技术实现思路
1、基于此，针对光刻机循环水箱出现异常的情况提供一种光刻机循环水箱系统。
2、为了实现上述目的，本技术提供了一种光刻机循环水箱系统，包括：
3、第一水循环管路，第二水循环管路，第三水循环管路，第一阀门以及第二阀门；
4、所述第一水循环管路与供水装置串联，用于提供冷水以降低所述第二水循环管路内水的温
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【技术保护点】
1.一种光刻机循环水箱系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述第三水循环管路包括：
3.根据权利要求2所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述第三水循环管路还包括：
4.根据权利要求2所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述第三水循环管路还包括：
5.根据权利要求2所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述第三水循环管路还包括：
6.根据权利要求1所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述光刻机循环水箱系统还包括：
7.根据权利要求1所述的光刻机循...
【技术特征摘要】
1.一种光刻机循环水箱系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述第三水循环管路包括：
3.根据权利要求2所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述第三水循环管路还包括：
4.根据权利要求2所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述第三水循环管路还包括：
5.根据权利要求2所述的光刻机循环水箱系统，其特征在于，所述第三水循环管路还包括：
6.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵国瑞，康毅豪，
申请(专利权)人：杭州富芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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