一种光学晶圆压印胶体清除设备制造技术

本技术提供一种光学晶圆压印胶体清除设备，包括传送单元、喷淋单元、擦洗单元、清洗单元以及干燥单元。喷淋单元、擦洗单元、清洗单元以及干燥单元设于传送单元上方，传送单元与待处理光学晶圆具有镀设功能膜的底面接触，传送单元将待处理光学晶圆具有压印胶体的顶面依次送入喷淋单元喷淋润湿、擦洗单元擦洗、清洗单元冲洗以及干燥单元干燥处理，使得待处理光学晶圆满足再次重复利用的要求，相较现有处理方式，不会使得待处理光学晶圆上的功能膜失效，后续无需对待处理光学晶圆重新镀设功能膜，无需采用强碱性氧化物溶剂对光学晶圆上失效的功能膜进行高温脱除以及无需对待处理光学晶圆进行抛光处理，且清洗溶剂用量小，不会产生大量废液。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于ar衍射光波导，具体涉及一种光学晶圆压印胶体清除设备。

技术介绍

1、增强现实(augmented rea l i ty，ar)技术是指通过某种技术手段为使用者在现实世界中提供额外的信息(即所谓的“增强”)，这种技术把虚拟世界的图像和现实世界的场景有机的融合在一起，通过将计算得到的信息与真实世界进行深度整合，从而给使用者提供更丰富的信息和浸入式体验。

2、增强现实技术可以通过很多硬件平台实现，其中最具有沉浸感的是可穿戴增强现实设备，即ar眼镜。

3、目前，比较成熟的ar眼镜技术方案主要分为棱镜方案、b i rdbath方案、自由曲面方案、离轴全息透镜方案和衍射光波导方案。

4、现有衍射光波导的制备方法示例如下：

5、一、在光学晶圆的一面镀设功能膜，功能膜具有增透减反作用。

6、二、在光学晶圆的上述一面的对立面纳米压印光栅结构，具体包括：

7、1.制备具有预设光栅结构的压印母版。

8、2.将压印母版的光栅结构通过纳米压印工艺转印至软膜，在软膜上得到光栅结构的反结构，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，包括传送单元、喷淋单元、擦洗单元、清洗单元以及干燥单元；

2.根据权利要求1所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述传送单元包括传送带以及传送膜层；

3.根据权利要求2所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述传送单元还包括传送膜层上料机构；

4.根据权利要求2所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述传送膜层的顶面间隔设置多个粘性保护膜；

5.根据权利要求1所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述喷淋单元包括喷淋腔室、第一输送管道以及第一喷嘴；</p>

6.根据...

【技术特征摘要】

1.一种光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，包括传送单元、喷淋单元、擦洗单元、清洗单元以及干燥单元；

2.根据权利要求1所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述传送单元包括传送带以及传送膜层；

3.根据权利要求2所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述传送单元还包括传送膜层上料机构；

4.根据权利要求2所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述传送膜层的顶面间隔设置多个粘性保护膜；

5.根据权利要求1所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述喷淋单元包括喷淋腔室、第一输送管道以及第一喷嘴；

6.根据权利要求1所述的光学晶圆压印胶体清除设备，其特征在于，所述擦洗单元包括依次设置的擦拭部件放卷机构、擦拭部件浸润机...

【专利技术属性】
技术研发人员：张新，赵沙欧，孟祥峰，
申请(专利权)人：浙江至格科技有限公司，
类型：新型
国别省市：