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本技术提供一种光学晶圆压印胶体清除设备，包括传送单元、喷淋单元、擦洗单元、清洗单元以及干燥单元。喷淋单元、擦洗单元、清洗单元以及干燥单元设于传送单元上方，传送单元与待处理光学晶圆具有镀设功能膜的底面接触，传送单元将待处理光学晶圆具有压印胶体...
该专利属于浙江至格科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江至格科技有限公司授权不得商用。

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