等离子体处理装置及等离子体处理装置的使用方法制造方法及图纸

技术编号:4496943 阅读:144 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种等离子体处理装置及等离子体处理装置的使用方法。等离子体处理装置(10),具有:由金属形成的处理容器(100)、输出微波的微波源(900)、面向处理容器(100)的内壁并向处理容器内透过自微波源(900)输出的微波的电介质板(305)、和在处理容器的内面设置的作为传播阻碍部发挥功能的槽(300a)。在供给低频微波的情况下,通过槽(300a)抑制导体表面波的传播。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及通过电磁波M气体而对被处理体实施等离子处理的等离 子体处理装置,特别是涉及具备对电磁波的传播进行控制的机构的等离子 体处理装置。
技术介绍
在使用电磁波生成的等离子体中,微波等离子体是通过将微波经由电 介质板导入到减压状态的处理室内而发生的。在微波等离子体处理装置中,当等离子体的电子密度ne大于截止(cut-off)密度nc时,微波无法进 入到等离子体内,而在电介质板和等离子体之间传播。在传播过程中,微 波的一部分作为消减波被等离子体吸收,用于维持等离子体。如此,在电 介质板和等离子体之间传播的微波被称为表面波。就表面波而言,根据微波的频率、等离子体的电子密度、电介质板的 形状与尺寸、电介质板的介电常数等来决定所激发的传播模式。即通常, 作为用于发生等离子体的^JC机构,使用2.45GHz的微波,由该微波在电 介质板的正下方生成的表面波通常被体现为多模的重合。特别是在适于被 处理体的处理的lxlo"cm" lxi(pcm—3左右的电子密度的区域,集中 了多个表面波模式。另一方面,表面波模式相对于等离子体的电子密度是离散的。由此, 有可能由表面波生成不适合于处理的不均匀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体处理装置,通过电磁波激发气体而对被处理体实施等离子体处理,其特征在于,具备: 由金属形成的处理容器、 输出电磁波的电磁波源、 面向上述处理容器的内壁并向上述处理容器内透过从上述电磁波源输出的电磁波的电介质板、和  在上述处理容器的内面设置的传播阻碍部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:平山昌树大见忠弘
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社国立大学法人东北大学
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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