半导体装置的制造方法制造方法及图纸

技术编号:42629378 阅读:27 留言:0更新日期:2024-09-06 01:30
本实施方式涉及一种半导体装置的制造方法。根据一个实施方式,提供半导体装置的制造方法。半导体装置的制造方法包含准备形成着二维分布的多个凸部的第1衬底。半导体装置的制造方法包含在第1衬底的多个凸部积层第1膜。半导体装置的制造方法包含在第2衬底积层第2膜。半导体装置的制造方法包含将第1膜中的第1衬底的相反侧的主面与第2膜中的第2衬底的相反侧的主面接合。半导体装置的制造方法包含从第1衬底这一侧照射激光光。半导体装置的制造方法包含剥离第1衬底。激光光的点区域的直径大于第1衬底的主面中的凸部的平均配置间距。

【技术实现步骤摘要】

本实施方式涉及一种半导体装置的制造方法


技术介绍

1、在制造半导体装置时,有时将2个衬底接合,然后,通过照射激光光来将2个衬底中一个衬底剥离(激光剥离)。业界期望提高该激光剥离的产能。


技术实现思路

1、根据一个实施方式,提供半导体装置的制造方法。半导体装置的制造方法包含准备形成着二维分布的多个凸部的第1衬底。半导体装置的制造方法包含在第1衬底的多个凸部积层第1膜。半导体装置的制造方法包含在第2衬底积层第2膜。半导体装置的制造方法包含将第1膜中的第1衬底的相反侧的主面与第2膜中的第2衬底的相反侧的主面接合。半导体装置的制造方法包含从第1衬底这一侧照射激光光。半导体装置的制造方法包含剥离第1衬底。激光光的点区域的直径大于第1衬底的主面中的凸部的平均配置间距。

2、根据一个实施方式,能够提供一种能够提高激光剥离的产能的半导体装置的制造方法。

【技术保护点】

1.一种半导体装置的制造方法,具备以下步骤:

2.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其中在从与所述第1衬底的主面垂直的方向透视的情况下,所述激光光的点区域与所述多个凸部中的2个以上的凸部重叠。

3.根据权利要求2所述的半导体装置的制造方法,其中在从与所述第1衬底的主面垂直的方向透视的情况下,所述激光光的点区域在内侧包含所述2个以上的凸部。

4.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其中所述多个凸部是将所述第1衬底的主面加工而形成。

5.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其中所述多个凸部是

6.根据权利要求1所...

【技术特征摘要】

1.一种半导体装置的制造方法,具备以下步骤:

2.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其中在从与所述第1衬底的主面垂直的方向透视的情况下,所述激光光的点区域与所述多个凸部中的2个以上的凸部重叠。

3.根据权利要求2所述的半导体装置的制造方法,其中在从与所述第1衬底的主面垂直的方向透视的情况下,所述激光光的点区域在内侧包含所述2个以上的凸部。

4.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其中所述多个凸部是将所述第1衬底的主面加工而形成。

5.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其中所述多个凸部是

6.根据权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其中所述第1衬底的热膨胀系数大于所述第1膜的热膨胀系数。

7.一种半...

【专利技术属性】
技术研发人员:水田吉郎村上贞俊
申请(专利权)人:铠侠股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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