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处理方法和处理装置制造方法及图纸

技术编号:42629364 阅读:23 留言:0更新日期:2024-09-06 01:30
本公开提供一种处理方法和处理装置,能够通过干法工艺来去除金属氧化膜。基于本公开的一个方式的处理方法包括去除金属氧化膜的工序,在所述去除金属氧化膜的工序中,向处理容器内供给含卤素的气体来去除所述处理容器内的金属氧化膜。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种处理方法和处理装置


技术介绍

1、已知一种通过使用清洁溶液进行清洗来去除附着于清洗对象物的表面的金属氧化膜的技术(例如,参照专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2005-167087号公报


技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本公开提供一种能够通过干法工艺来去除金属氧化膜的技术。

3、用于解决问题的方案

4、基于本公开的一个方式的处理方法包括以下工序:向处理容器内供给含卤素的气体来去除所述处理容器内的金属氧化膜。

5、专利技术的效果

6、根据本公开,能够通过干法工艺来去除金属氧化膜。

【技术保护点】

1.一种处理方法,其中,

2.根据权利要求1所述的处理方法,其中,

3.根据权利要求2所述的处理方法,其中,

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的处理方法,还包括:

5.根据权利要求4所述的处理方法,还包括:

6.一种处理装置,具备:

【技术特征摘要】

1.一种处理方法,其中,

2.根据权利要求1所述的处理方法,其中,

3.根据权利要求2所述的处理方法,其中,

4...

【专利技术属性】
技术研发人员:村上博纪
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社
类型:发明
国别省市:

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