【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及分散剂
，具体涉及一种碳化硅专用分散剂。
技术介绍
碳化硅作为一种高性能磨削材料，其分级精度至关重要，在分级操作中，分散是其基本前提，分散剂的选择就成为重中之重，现在所用的分散剂一类是阴离子型表面活性剂，一类是非离子型表面活性剂，但它们普遍存在以下几个方面缺点成本高，用量大，有生物发酵现象，成品中存在分散剂残留。因此寻找一种成本低廉，用量少，有杀生作用且在成品中无残留的分散剂已成为当务之急。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种成本低、用量少、有杀生作用且在成品中无残留的碳化硅专用分散剂。 为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案是 碳化硅专用分散剂，其按重量百分比，由以下原料组成 去离子水 40%-80% 十二烷基苯磺酸钠 10%-40% 三乙醇胺 2%-20% 乙二胺四乙酸二钠 2%-10% TX-10 0.5%-5% 异噻唑啉酮 0.1%-4% 增溶消泡剂 1%_4%。 其中，增溶消泡剂选用正丁醇。 所述异噻唑啉酮包括5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮(CMI)和2_甲基_4_异噻唑啉-3-酮(MI)。 本专利技术原料组分中使用去离子水能够避免水中金属离子的影响而降低分散剂的使用效果，保证产品品质；十二烷基苯磺酸钠为阴离子表面活性剂；TX-IO即仲辛基酚聚氧乙烯(10)醚，为非离子表面活性剂；乙二胺四乙酸二钠为一种络合剂，起到水质软化的作用；三乙醇胺为碱性稳定剂；正丁醇为一种增溶消泡剂；异噻唑啉酮与微生物接触后，能迅速地不可逆地抑制其生长，从而导致微生物细胞的死亡，故对常见细菌、真菌等具有很强的抑制和杀...
【技术保护点】
碳化硅专用分散剂，其特征在于：其按重量百分比，由以下原料组成 去离子水 ４０％－８０％ 十二烷基苯磺酸钠 １０％－４０％ 三乙醇胺 ２％－２０％ 乙二胺四乙酸二钠 ２％－１０％ ＴＸ－１０ ０．５％－５％ 异噻唑啉酮 ０．１％－４％ 增溶消泡剂 １％－４％。
【技术特征摘要】
碳化硅专用分散剂，其特征在于其按重量百分比，由以下原料组成去离子水40％-80％十二烷基苯磺酸钠10％-40％三乙醇胺2％-20％乙二胺四乙酸二钠2％-10％TX-10 0.5％-5％异噻唑啉酮 0.1％-4％增溶消泡剂 1...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨天宇，
申请(专利权)人：山东青州微粉有限公司，
类型：发明
国别省市：37[中国|山东]
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