【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体显影工艺，特别是涉及一种显影液供给管路。
技术介绍
如图1所示，传统的显影液供给管路包括显影液管路11、恒温交换系统6、温度监测器7、温度控制器4、显影液喷嘴等装置。在传统的显 影单元中，由于E2/E3的喷嘴直径(0.4mm)非常小，且显影液与空气 结合后容易产生碳酸盐结晶，容易造成喷嘴阻塞，使得显影液从喷嘴吐出 时无法均匀的分布在晶片上，从而导致晶片显影不良或是喷嘴上的结晶物 掉到晶片上，造成产品报废。同时，由于传统的显影液供给管路没有提供使管路清洁的装置(参见 图1),因此管路内壁、管路接头、管路阀件及显影液喷嘴容易脏污。又 由于部分显影液管路中途没有设置恒温装置，加上管路内壁污垢，显影液 喷嘴的恒温管外壁污垢，容易导致显影液变质，造成显影能力不足。
技术实现思路
针对现有技术中显影液喷嘴结晶堵塞的问题，本专利技术的目的是提出一 种显影液供给管路，在原有显影液供给管路的基础上，增加用于清洗显影 液喷嘴的去离子水管路，使存在于喷嘴内的结晶物排出，及清洁管路内的 沉积物，从而降低显影不良的机会。为了达到本专利技术的上述和其他目的，本专利技术提出...
【技术保护点】
一种显影液供给管路，包括显影液管路、位于显影液管路前端的显影液喷嘴，其特征在于，还包括与显影液管路相并联的去离子水管路，该去离子水管路通过安装到显影液管路的控制阀门连接到显影液管路。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：鲁旭光，胡清强，陈晓琪，
申请(专利权)人：和舰科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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