【技术实现步骤摘要】
具有高填料含量的可聚合牙科组合物
本专利
在于牙科组合物。更准确地说,本专利技术开发的牙科组合物可用于制造假牙和用于牙科修复。
技术介绍
传统上这些牙科组合物是环氧树脂或可光聚合的有机硅或可自由基聚合的丙烯酸酯树脂。这些组合物进一步包括粒状增强填料(例如疏水化的二氧化硅)、光引发剂和任选的光敏剂(在阳离子组合物的情况下)或用于自由基组合物的自由基引发剂,甚至包括其他功能性添加剂例如颜料或稳定剂。将它们混合之后,使这些组合物成型,然后发生光交联,从而成为其结构类似于牙齿结构的物质。填料由具有高比表面积的非常细的颗粒(≈0.05μm)组成,这一因素限制了树脂中填料的加入量。这是因为树脂的吸纳能力有限。结果这些组合物中的填料含量很少大于45%体积。因此这有损于粒状填料所赋予的机械增强功能。粒状填料也可以与可(光)聚合/可交联物质的活性官能团发生相互作用,因此可能带来牙科组合物的不稳定性问题。专利US-B-6306926涉及牙科组合物,该组合物基于环氧(例如聚四氢呋喃、UVR6105、EPON828、GY281)、氧杂环丁烷或乙烯基醚树脂(其中它们在辐射下是可阳离子聚合/可阳离子交联的)以及任选地可自由基聚合的(甲基)丙烯酸酯树脂。除了阳离子光引发剂和任选的自由基引发剂这些聚合引发剂之外,根据需要,这些组合物还包括不透射线的微粒状无机填料,该无机填料选自以下的金属化合物:氧化物、卤化物、硼酸盐、磷酸盐、硅酸盐、碳酸盐、锗酸盐、-->四氟硼酸盐和六氟磷酸盐,其等电位点小于7。该组合物在25℃下经过30分钟的阳离子聚合后其巴氏硬度至少是10。这些树脂的缺 ...
【技术保护点】
牙科组合物,其包括:(1)至少一种在活化作用下,优选光化活化作用下为阳离子活性的化合物;(2)至少一种牙科用填料,相对于组合物的总重量而言,该牙科用填料的存在量为至少10wt%;(3)至少一种分散剂,该分散剂基于至少一种有机聚合物或共聚物,该有机聚合物或共聚物选自其胺指数小于或等于100mg氢氧化钾/克分散剂的那些有机聚合物或共聚物;(4)至少一种阳离子光引发剂;和(5)任选地至少一种光敏剂。
【技术特征摘要】
1、牙科组合物,其包括:(1)至少一种在活化作用下,优选光化活化作用下为阳离子活性的化合物;(2)至少一种牙科用填料,相对于组合物的总重量而言,该牙科用填料的存在量为至少10wt%;(3)至少一种分散剂,该分散剂基于至少一种有机聚合物或共聚物,该有机聚合物或共聚物选自其胺指数小于或等于100mg氢氧化钾/克分散剂的那些有机聚合物或共聚物;(4)至少一种阳离子光引发剂;和(5)任选地至少一种光敏剂。2、权利要求1的组合物,其特征在于酸指数为小于200mg氢氧化钾/g分散剂。3、权利要求1的组合物,其特征在于牙科用填料(2)的存在量为10至85wt%。4、权利要求1或2的牙科组合物,其特征在于分散剂(3)选自聚氨酯/丙烯酸酯共聚物,任选地以烷基铵盐的形式。5、权利要求1至4中任一项的牙科组合物,其特征在于分散剂(3)的存在量为50ppm至1%,优选为100ppm至5000ppm。6、权利要求1至5中任一项的牙科组合物,其特征在于阳离子活性化合物(1)选自包括环氧化物、乙烯基醚、氧杂环丁烷、螺原碳酸酯、螺原酸酯以及它们的组合的单体和/或(共)聚合物的组中。7、权利要求1至6中任一项的牙科组合物,其特征在于阳离子活性化合物(1)由至少一种可交联和/或可聚合的有机硅低聚物或聚合物组成,该有机硅低聚物或聚合物在室温下呈液态或者在低于100℃的温度下是可热熔的,并且包含:□至少一个式(FS)的单元:-->其中:-a=0、1或2,-R0相同或不同,表示烷基、环烷基、芳基、乙烯基、氢、烷氧基基团,优选为C1-C6低级烷基,-Z相同或不同,是含有至少一个活性环氧和/或链烯基醚和/或氧杂环丁烷和/或二氧戊环和/或碳酸酯官能团的有机取代基,和□至少两个硅原子。8、权利要求7的牙科组合物,其特征在于Z是含有至少一个活性环氧和/或二氧戊环官能团的有机取代基Z1,优选是含有至少一个活性环氧官能团的有机取代基Z1。9、权利要求6或7的组合物,其特征在于低聚物或聚合物(1)进一步包含其它活性官能团Z,例如链烯基醚、氧杂环丁烷和/或碳酸酯活性官能团Z2。10、权利要求6或7的组合物,其特征在于Z1的一个或多个活性官能团选自下述基团:11、权利要求1至10中任一项的牙科组合物,其特征在于光引发剂是硼酸盐类型的光引发剂并且选自下式所示的那些:△其硼酸盐阳离子部分选自:(1)式(I)所示的鎓盐: [(R1)n-A-(R2)m]+ (I)式中:●A表示第15至17族的元素,例如I、S、Se、P或N,●R1表示C6-C20杂环或碳环芳基基团,所述杂环基团可以包含氮或硫-->作为杂元素,●R2表示R1或C1-C30直链或支化的烷基或链烯基基团,所述基团R1和R2任选地被C1-C25烷氧基、C1-C25烷基、硝基、氯、溴、氰基、羧基、酯或巯基基团所取代,●n是1至v+1的整数,v是元素A的化合价,●m是0至v-1的整数,条件是n+m=v+1,(2)异氧代二氢苯并噻喃鎓盐,(3)式(III)的有机金属盐: (L1L2L3M)+q式中:●M表示第4至10族的金属,特别是铁、锰、铬或钴,●L1表示通过π电子连接至金属M的1个配体,该配体选自η3-烷基、η5-环戊二烯基和η7-环庚三烯基配体以及η6-芳族化合物,η6-芳族化合物选自任选取代的η6-苯配体和拥有2至4个稠环的化合物,各个环能够通过3至8个π电子而对金属M的价电子层作出贡献,●L2表示通过π电子连接至金属M的配体...
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