【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构，更详细地，涉及一种无需解除真空腔室的真空度便可使得原有利用真空紫外线的除静电装置从真空腔室自由拆装的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构。
技术介绍
1、为了事先预防在lcd、oled、晶片等各种基板或者片状结构或各种膜结构等各种材料或者制品处理工序中，因附着细微灰尘或静电而发生器件损坏等问题，通常安装除静电装置。
2、另一方面，最近随着lcd、oled、半导体技术进一步精密化，在减压真空环境下进行的例如沉积工序或真空腔室内工序，或在特殊环境下进行的例如处置惰性气体等工序也呈现大幅增加的趋势。
3、在这种特殊环境下，电晕放电式装置因高压放电导致的溅射现象、离子平衡调整导致的不便等问题，存在难以应用的问题，x射线辐射式装置由于除电性能低而存在难以应用的问题。
4、因此，最近开发了照射真空紫外线来执行除电的利用真空紫外线的除静电装置技术，这种利用真空紫外线的除静电装置加装于减压或惰性气体的真空腔室的视口，用...
【技术保护点】
1.一种具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构，其特征在于，所述第一照射窗由高真空紫外线透过率材质构成。
3.根据权利要求2所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构，其特征在于，所述视口在供所述头部插入的插入口形成有阻尼器，所述阻尼器用以防止由高真空紫外线透过率材质构成的所述第一照射窗和所述第二照射窗因抵接而破损。
4.根据权利要求1至3所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射...
【技术特征摘要】
1.一种具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构，其特征在于，所述第一照射窗由高真空紫外线透过率材质构成。
3.根据权利要求2所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构，其特征在于，所述视口在供所述头部插入的插入口形成有阻尼器，所述阻尼器用以防止由高真空紫外线透过率材质构成的所述第一照射窗和所述第二照射窗因抵接而破损。
4.根据权利要求1至3所述的具备由高真空紫外线透过率材质构成的照射窗的真空腔室的视口结构，其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员：李东勋，李炳俊，李寿永，朴进哲，郑董吉，
申请(专利权)人：禅才高科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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