电感耦合线圈及电感耦合等离子体发生装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种电感耦合线圈及电感耦合等离子体发生装置，属于半导体加工制造领域。所述线圈包括至少一个多匝数的绕组，并在绕组的输出端串联接入一段电感，电感上具有一个可移动的电导体滑块，电感通过电导体滑块接地，用于改变线圈上的电流分布。所述装置由反应腔室、静电卡盘和电感耦合线圈组成，其中电感耦合线圈包括至少一个多匝数的绕组，并在绕组的输出端串联接入一段电感，电感上具有一个可移动的电导体滑块，电感通过电导体滑块接地，用于改变电感耦合线圈上的电流分布。本发明专利技术有效地改善了半导体加工中等离子体密度分布的均匀性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体加工制造领域，特别涉及一种电感耦合线圈及电感耦合等离子 体发生装置。
技术介绍
目前，随着电子技术的高速发展，人们对集成电路的集成度要求也越来越高，这 就要求生产集成电路的企业也得不断地提高半导体晶片的加工能力。等离子体发生装 置被广泛地应用于集成电路或MEMS器件的制造过程中，因此，适用于刻蚀、沉积或 其它加工工艺的等离子体发生装置的研发对于半导体制造工艺和设施的发展来说是至 关重要的。在传统半导体制造工艺中己经使用了各种类型的等离子体发生装置，例如 电容耦合等离子体类型、电感耦合等离子体类型和电子回旋共振等离子体等类型。利 用电容耦合方式产生的等离子体，其结构简单，造价低，但其产生的等离子体的密度 较低，难以满足等离子体刻蚀速率和产率的需求；电子回旋共振等离子体虽然可以在 较低的工作气压下获得密度较高的等离子体，但是由于需要引入外磁场及微波管，因 此造价相对较高；电感耦合等离子体发生装置被广泛应用于刻蚀等半导体加工工艺中， 它可以在较低工作气压下获得高密度的等离子体，且其结构简单，造价低，同时还可 以对产生等离子体的射频源(决定等离子体密度)和基片台射频源(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈包括至少一个多匝数的绕组，并在所述绕组的输出端串联接入一段电感，所述电感上具有一个可移动的电导体滑块，所述电感通过所述电导体滑块接地，用于改变所述线圈上的电流分布。

【技术特征摘要】
1. 一种电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈包括至少一个多匝数的绕组，并在所述绕组的输出端串联接入一段电感，所述电感上具有一个可移动的电导体滑块，所述电感通过所述电导体滑块接地，用于改变所述线圈上的电流分布。2. 如权利要求l所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈中间部分的匝间距 大于所述线圈边缘部分的匝间距，所述线圈中心部分的匝间距大于所述线圈边缘部分 的匝间距，且小于所述线圈中间部分的匝间距。3. 如权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述电感的长度大于入/4 且小于A/2，其中入为电磁波在所述线圈中传输的波长。4. 如权利要求1或3所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述电感由至少一段螺 旋线构成。5. 如权利要求1或3所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述电感由至少一段弧 形线构成。6. —种电感耦合等离子体发生装置，所述装置由反应腔室、静电卡盘和电感耦合 线圈组成，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：张文雯，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]