带电粒子束的图案无变化聚焦制造技术

本发明专利技术公开一种带电粒子束的图案无变化聚焦。一种用于聚焦扫描显微镜的方法，该方法包括以一次带电粒子束扫描晶片的参考单元裸片的第一部位，检测从该部位处发射的二次束，以及基于二次束来计算该部位的第一聚焦等级。该方法包括以一次束来扫描晶片的指定单元裸片的第二部位，同时调制一次束的焦深，参考单元裸片和指定的单元裸片具有全等的布局，第二部位与第一部位对应在位置上矢量地对应；以及响应一次束来检测从第二部位处发射的二次束。该方法还包括基于所检测的从第二部位发射的二次束来计算第二部位的第二聚焦等级；以及利用第一和第二聚焦等级来确定第二部位的一次束的准确聚焦。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于聚焦扫描显微镜的方法，包括：　以一次带电粒子束扫描晶片的参考单元裸片的多个第一部位；　响应所述一次带电粒子束来检测从所述多个第一部位发射的二次带电粒子束；　基于所检测的二次束来计算所述多个第一部位的第一聚焦等级；　 　以所述一次带电粒子束扫描晶片的指定的单元裸片的多个第二部位，同时调制所述一次带电粒子束的焦深，所述参考单元裸片和所述指定的单元裸片具有全等的布局，以及其中所述第二部位与所述参考单元裸片的第一部位在位置上分别矢量地对应；　响应所述 一次带电粒子束来检测从所述多个第二部位发射的所述二次带电粒子束；　基于所检测的从所述第二部位发射的二次束来计算所述第二部位的第二聚焦等级；以及　响应所述第一和第二聚焦等级来确定所述第二部位的所述一次带电粒子束的准确聚焦。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：尼珥玆维，
申请(专利权)人：以色列商应用材料以色列公司，
类型：发明
国别省市：IL[以色列]