炉体温度梯度实时可调机构制造技术

一种炉体温度梯度实时可调机构，涉及晶体生长设备和高温设备，属于晶体生长设备和半导体设备制造技术领域，主要为炉体，由炉壁和炉盖构成，炉盖放置在炉壁上下端面，其特征在于：所述炉壁和上下炉盖在垂直方向上分成一层或多层，在水平方向上分成一块或多块。有益效果是将炉壁分割成若干个独立室、炉盖也分割成若干个独立冷却室的炉膛，在应用中每个腔室的冷却流体、液体或气体的温度和流量都可以分别控制，控制每个小腔室的流量和温度，就可以在炉膛的空间内实现对温度梯度的精确控制。

Furnace body temperature gradient real-time adjustable mechanism

A real time furnace body temperature gradient regulating mechanism relates to crystal growth equipment and high temperature equipment, which belongs to the technical field of crystal growth equipment and semiconductor manufacturing equipment, mainly for furnace body, the furnace wall and furnace cover, furnace cover is placed in the furnace wall on the lower end face, which is characterized in that the furnace wall and the upper and lower the furnace cover in the vertical direction is divided into one or more layers into one or more blocks in the horizontal direction. The beneficial effect of the furnace wall is divided into several independent chambers, the furnace cover also is divided into several independent cooling chamber of the furnace, in the application of each chamber cooling fluid, liquid or gas temperature and flow control can be controlled separately, each chamber temperature and flow, you can achieve in the space in the precise control of the temperature gradient.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及晶体生长设备和高温设备，属于晶体生长设备和半导体设备制造
，具体是一种炉体温度梯度实时可调机构。
技术介绍
随着现代工业的发展，在新材料行业和半导体行业中对高温设备的需求越来越 多，这些设备包括晶体生长炉、高温烧结炉、CVD和M0CVD设备、溅射设备。在设备需求增加 的同时，对工艺要求也越来越高，对设备的要求也越来越高。 这些相关的热处理设备根据不同的工艺要求，对设备炉膛内的温度梯度有一定的 特殊要求，往往在设备运行时候会发现温场不是太合适，现有设备的炉膛结构由于热传输 时固定的，所以要调节温场只能把设备停机进行调节，极大的浪费了时间和成本。同时调节 的难度也很大，需要多次的摸索，积累经验才可以实现。
技术实现思路
本专利技术所解决的技术问题在于提供一种可以在高温设备不停机的情况就可以实 现温场调节的炉体温度梯度实时可调机构。 本专利技术所解决的技术问题采用以下技术方案来实现 —种炉体温度梯度实时可调机构，主要为炉体，由炉壁和炉盖构成，炉盖放置在炉 壁上下端面，其特征在于所述炉壁和上下炉盖在垂直方向上分成一层或多层，在水平方向 上分成一块或多块。 所述分割后的炉本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种炉体温度梯度实时可调机构，主要为炉体，由炉壁和炉盖构成，炉盖放置在炉壁上下端面，其特征在于：所述炉壁和上下炉盖在垂直方向上分成一层或多层，在水平方向上分成一块或多块。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄小卫，
申请(专利权)人：上海元亮光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]