一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器制造技术

技术编号:4152882 阅读:240 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种基于130nm?CMOS技术加工的双模带通滤波器,所述双模带通滤波器采用等边三角形的双模贴片滤波器,并在等边三角形顶端处增加微扰,通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率在60GHZ。所述双模带通滤波器使用传统的130nm?CMOS加工技术时,在介质层的最下面一层与衬底之间增加了一层接地板M1;所述双模带通滤波器使用传统的130nm?CMOS加工技术时,比传统工艺顶端的金属层M7厚度增厚1-2倍,有效地减少信号的传输损耗。本发明专利技术适用应用于雷达系统。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种采用130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器,属电子

技术介绍
高效的微带滤波器被广泛的运用在无线通信系统中,而双模微带滤波器更加具有 有吸引力,因为每一个双模滤波器可以作为双调谐谐振电路使用。圆形,方形的贴片谐振器 已被广泛关注。贴片谐振器,因为尺寸比较大,需要更高的设计成本和更大的尺寸,但是因 为其具有很低的插入损耗也很受青睐。本专利技术中,采用一种了等边三角贴片双模滤波器,大 大改善了慢波效应,实现带通滤波器的小型化。 在传统的130nm的CMOS技术,可采用7层结构(M1-M7),这样的结构为灵活设计提 供了很大的空间,但最下面的衬底材料对电磁波的损耗比较大,尤其是对于工作在高频阶 段的滤波器,这是在设计中需要解决的一个问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是,利用传统的130nm的CMOS技术加工60GHz双模带通滤波器,实 现带通滤波器的小型化,并对采用传统的130nm的CMOS技术加工60GHz双模带通滤波器时 存在的电磁波传输损耗比较大的弊病进行处理改进。 本专利技术的技术方案是,采用等边三角形的双模贴片滤波器,并在等边三角形顶端 处增加微扰,通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率在60GHZ ;在滤波器衬底上面增 加了一层接地板M1,提供良好的隔离效果,同时增厚顶端的金属层M7,比传统工艺顶端的 金属层M7厚度增厚1-2倍,有效地减少信号的传输损耗。 本专利技术利用传统的130nm的CMOS技术加工60GHz双模带通滤波器,采用分形的等 边三角贴片滤波器,用于改善慢波效应;并通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率 在60GHZ。在使用CMOS技术多层金属加工的时候,随着频率的升高,对于减少相位偏移以及 降低传输损耗的要求也会相应的增加,尤其是衬底对微波的损耗很大,为解决微波传输的 损耗,本专利技术通过调整微扰尺寸a的大小,并在衬底上面增加了一层接地板Ml,提供良好的 隔离效果,同时增厚顶端的金属层M7也可以有效地减少信号的传输损耗。 图1是基于130nm CMOS技术加工的金属层纵切面图;M1为底层的接地板,可以提 供良好的隔离效果。因为衬底对于微波的损耗很大,增加Ml接地板隔离后可大大减少微波 的损耗。M7为顶层金属,M7的厚度要大于其他层,与传统工艺M7厚度相比,增厚了 l-2倍。 在这两层中间的是多层介质层(如图中所标注),本专利技术的这种设计有效减少了微波传输 损耗。 图2是本专利技术双模滤波器的俯视图,图中P2为三角形贴片谐振器,L2为三角形贴 片的高度,通过调整这个参数L2的大小,使得滤波器的中心频率调整到非常接近60GHZ。 d 为两个馈线间的距离,d越小,双模的分裂越明显。但是d变小,也导致了插入损耗变大,虽 然通带变得更光滑和更宽。于是在原来基础上增加了微扰P3,通过调整微扰P3宽度a的大小,在使双模分裂更加明显的同时,通带变得更加光滑和更宽了,但是没有增加插入损耗。调整a的大小,效果要优于调整馈线宽度d。 本专利技术与现有技术相比的有益效果是,本专利技术在不增加电路面积和加工复杂度前提下,采用等边三角形贴片的谐振滤波器,可以通过调节三角形的高度,使得带通滤波器的中心频率为60GHZ,通过调整微扰尺寸的大小,在衬底上面增加了一层接地板M1,提供良好的隔离效果,同时增厚顶端的金属层M7也可以有效地减少信号的传输损耗。 本专利技术适用应用于雷达系统。附图说明 图1是基于130nm CMOS技术加工的金属层纵切面 图2是双模滤波器的俯视图; 图3是一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器整体效果图。 图中深色部分为金属,白色部分为非金属。 PI为输入输出端口的连接线;P2为三角形谐振器;P3为增加的微扰; a、 b为增加的微扰的宽度和长度;c为三角形谐振器底边的宽度;d为两个馈线间的距离;L1和L2分别为构成三角形谐振器的内外三角形的高度;W为输入输出的端口的宽度;M为三层金属层。具体实施例方式本专利技术实施例的是一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器,如图3所示,其中P2为等边三角形构成的谐振器,其中,L2为0. 6975mmP3, LI为0. 747mm, , c为0. 044mm, d为0. 452mm, w为0. 024mm ;为增加微扰,通过调整微扰贴片的大小,使得双模分裂更加明显,微扰尺寸a为0. 06mrn, b为0. 028mm。 P2和P3构成了性能良好的双模带通滤波器。图3中为本专利技术的整体图,本结构实现了多个传输零点、宽通带的60GHZ双模带通滤波器特性,并且插入损耗小于_3(18,远远小于其他60GHz的微带带通滤波器,适合应用在雷达系统中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于130nmCMOS技术加工的双模带通滤波器,其特征在于,所述双模带通滤波器采用等边三角形的双模贴片滤波器,并在等边三角形顶端处增加微扰,通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率在60GHZ。

【技术特征摘要】
一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器,其特征在于,所述双模带通滤波器采用等边三角形的双模贴片滤波器,并在等边三角形顶端处增加微扰,通过改变贴片的长度L2,使得通带的中心频率在60GHZ。2. 根据权利要求l所述的一种基于130nm CMOS技术加工的双模带通滤波器,其特征在于,所述双模带通滤波器使...

【专利技术属性】
技术研发人员:王杉刘海文史丽云
申请(专利权)人:华东交通大学
类型:发明
国别省市:36[中国|江西]

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