【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于纳米压印，具体涉及一种纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法。
技术介绍
1、在纳米压印中有一种样品表面结构，其结构尺寸跨度较大，约从50nm至1.5um尺寸跨度，该种样品结构造价比较高，良率也较低。如果能够通过纳米压印技术实现前端的工艺加工，就能够节省大量的加工费用，并提高生产效率。
2、公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本专利技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种纳米压印涂胶方法，涂胶结构及纳米压印方法，其能够实现与模板结构对应的图案化涂胶，解决纳米压印过程中残胶不均匀的问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术一具体实施例提供了一种纳米压印涂胶方法，适用于表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板的纳米压印，包括：
3、提供与样品结构对应的图案化电极，所述样品结构为采用表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板压印而成；
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【技术保护点】
1.一种纳米压印涂胶方法，适用于表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板的纳米压印，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，提供与样品结构对应的图案化电极，包括：
3.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，采用静电雾化喷涂设备向所述衬底表面喷射带静电的压印胶雾化微粒。
4.根据权利要求3所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，所述静电雾化喷涂设备包括高压静电发生器、与高压静电发生器相连的静电雾化喷头以及与静电雾化喷头相连通的注射泵；
5.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，...
【技术特征摘要】
1.一种纳米压印涂胶方法，适用于表面结构尺寸跨度大的纳米压印模板的纳米压印，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，提供与样品结构对应的图案化电极，包括：
3.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，采用静电雾化喷涂设备向所述衬底表面喷射带静电的压印胶雾化微粒。
4.根据权利要求3所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，所述静电雾化喷涂设备包括高压静电发生器、与高压静电发生器相连的静电雾化喷头以及与静电雾化喷头相连通的注射泵；
5.根据权利要求1所述的纳米压印涂胶方法，其特征在于，所述图案化电极以及所述衬底上均形成有对应的定位标尺。
【专利技术属性】
技术研发人员：刘超，刘泽，卢英卓，
申请(专利权)人：苏州新维度微纳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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