【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微纳结构制备，具体涉及一种连续面形微纳结构及其制备方法。
技术介绍
1、目前使用较多的连续面形的微纳结构的加工方法主要有移动掩膜曝光法、灰度曝光、多光束曝光等。这些加工方法主要存在的问题是设备比较昂贵、工艺复杂、加工精度不高等。
2、因此，针对上述技术问题，有必要提供一种连续面形微纳结构及其制备方法。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种连续面形微纳结构及其制备方法，其能够基于间隔分布的微纳单元制备连续面形微纳结构。
2、为了实现上述目的，本专利技术一具体实施例提供的技术方案如下：
3、一种连续面形微纳结构的制备方法，所述制备方法包括：
4、制备间隔分布的微纳单元；
5、在间隔分布的微纳单元上涂覆胶液，使胶液覆盖全部微纳单元且填充于相邻的两个微纳单元之间；
6、对胶液进行固化获得固化微结构，并得到具有连续面形的微纳结构。
7、在本专利技术的一个或多个实施例中，所述胶液通过雾化喷涂工艺...
【技术保护点】
1.一种连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，所述胶液通过雾化喷涂工艺涂覆于间隔分布的微纳单元上，所述雾化喷涂工艺包括：
3.根据权利要求1所述的连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，相邻两个所述微纳单元之间的固化微结构的厚度由中间向两侧逐渐增大。
4.根据权利要求1所述的连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，所述微纳单元呈阵列式间隔分布；或，所述微纳单元沿第一方向呈间隔分布。
5.根据权利要求4所述的连续面形微纳结构的制备方法，其...
【技术特征摘要】
1.一种连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，所述胶液通过雾化喷涂工艺涂覆于间隔分布的微纳单元上，所述雾化喷涂工艺包括：
3.根据权利要求1所述的连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，相邻两个所述微纳单元之间的固化微结构的厚度由中间向两侧逐渐增大。
4.根据权利要求1所述的连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，所述微纳单元呈阵列式间隔分布；或，所述微纳单元沿第一方向呈间隔分布。
5.根据权利要求4所述的连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，所述微纳单元呈阵列式间隔分布：
6.根据权利要求4所述的连续面形微纳结构的制备方法，其特征在于，所述微纳单元沿第一方向呈间隔分布：
7.一种连续面形微纳结构，其特征在于，所述连续面形微纳...
【专利技术属性】
技术研发人员：姜英杰，刘超，曹清华，
申请(专利权)人：苏州新维度微纳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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