【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于纳米压印,具体涉及一种纳米压印模具及纳米压印的方法。
技术介绍
1、纳米压印技术具有高分辨率、工艺过程简单、超低成本、高生产率等优点,被广泛应用于半导体等微纳制造领域。
2、现如今,传统纳米压印方式包括热压印、紫外线常温压印等方式。其中,由于热压印操作周期长、压力过大造成纳米压印模板损耗、压印对准偏差大,越来越多的设备设计朝着紫外线常温压印方式转变。
3、而传统紫外线常温压印设备在空气中进行纳米压印时,通常会在纳米压印模板的模具腔内陷入空气,导致气泡缺陷的生成,导致压印缺陷,压印结构的性能下降。
4、公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本专利技术的总体背景的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种纳米压印模具及纳米压印的方法,其能通过调节局部压力差,解决纳米压印中残胶不均一的问题;同时能兼容曲面压印,也能减少压印气泡及缺陷。
2
...【技术保护点】
1.一种纳米压印模具,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的纳米压印模具,其特征在于,所述软质基板由软质材料混合导流体材料制成,所述软质基板内导流体材料的电荷能被电磁场调控以进行定向运动。
3.根据权利要求2所述的纳米压印模具,其特征在于,所述软质材料包括聚二甲基硅氧烷;和/或,所述导流体材料包括等离子体和液态金属。
4.根据权利要求1所述的纳米压印模具,其特征在于,还包括软模板,所述软模板具有相对设置的第一表面和第二表面,所述软模板的第一表面通过所述硬质基板的第二孔洞以及所述软质基板的第三孔洞吸附于所述软质基板上,所述软模板
...【技术特征摘要】
1.一种纳米压印模具,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的纳米压印模具,其特征在于,所述软质基板由软质材料混合导流体材料制成,所述软质基板内导流体材料的电荷能被电磁场调控以进行定向运动。
3.根据权利要求2所述的纳米压印模具,其特征在于,所述软质材料包括聚二甲基硅氧烷;和/或,所述导流体材料包括等离子体和液态金属。
4.根据权利要求1所述的纳米压印模具,其特征在于,还包括软模板,所述软模板具有相对设置的第一表面和第二表面,所述软模板的第一表面通过所述硬质基板的第二孔洞以及所述软质基板的第三孔洞吸附于所述软质基板上,所述软模板的第二表面上形成有纳米压印图案。
5.根据权利要求4所述的纳米压印模具,其特征在于,所述软模板具有弹性形变能力,所述软模板能在所述软质基板的作用下改变形状;和/或,
6.一种采用如...
【专利技术属性】
技术研发人员:褚浩宇,曹清华,李大元,
申请(专利权)人:苏州新维度微纳科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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