【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于纳米压印，具体涉及一种纳米压印模板及降低纳米压印脱模缺陷的方法。
技术介绍
1、在纳米压印中，会通过模板在衬底聚合物上形成结构图形，而后脱模分离。脱模分离的工艺过程会涉及到聚合物和模板的分离。
2、现有脱模方案有面脱模和线脱模的方式，对于微观结构图案密集，特征尺寸小，深宽比大，分布面积大的图形，脱模难度增加，面脱模力太大，难以实现顺利脱模，只能以线的形式脱模。因而大部分的脱模分离是以一定的角度，再以线剥离的形式分开的。
3、目前常用的降低聚合物和模板之间脱离力的方法有模板的表面处理以及脱模过程的控制。虽然这些方法可以一定程度降低聚合物和模板之间的结合力，但是由于模板的表面微观结构的分布、模板与聚合物的接触面积、材料模板表面处理的均匀性、以及材料模板表面的粗糙度等因素的影响，聚合物和模板之间依然有很大的脱模力，造成在分离的过程中存在脱模缺陷，尤其是在模板表面存在的大面积的图形的边缘、以及其他有图形和无图形分布的突变区域。因为图形分布的变化，导致的脱模力和脱模速度的改变较大，往往会造成图形边缘微观结构的
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1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述第一区域内的第一微纳结构与所述第二区域内的第二微纳结构相同；和/或，
3.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述第一区域内的第一微纳结构与所述第二区域内的第二微纳结构在同一加工条件和同一加工方式下形成。
4.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，当所述第二区域位于所述第一区域在第一方向上的后方时，在第二方向上，所述第二区域的两端均与所述第一区域的两端齐平，或者，所述第二区域的两端均超出所述第一区域的两端设置。
<...【技术特征摘要】
1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述第一区域内的第一微纳结构与所述第二区域内的第二微纳结构相同；和/或，
3.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，所述第一区域内的第一微纳结构与所述第二区域内的第二微纳结构在同一加工条件和同一加工方式下形成。
4.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，当所述第二区域位于所述第一区域在第一方向上的后方时，在第二方向上，所述第二区域的两端均与所述第一区域的两端齐平，或者，所述第二区域的两端均超出所述第一区域的两端设置。
5.根据权利要求1所述的纳米压印模板，其特征在于，当所述第二区域位于所述第一区域在第一方向的上方和下方...
【专利技术属性】
技术研发人员：李大元，姜英杰，褚浩宇，
申请(专利权)人：苏州新维度微纳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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