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本发明公开了一种纳米压印模板及降低纳米压印脱模缺陷的方法，通过在模板本体表面的第一区域边缘设置第二区域，第二区域可以设置在第一区域在第一方向的后方，也可以设置在第一区域在第一方向的上方和下方，也可以同时设置在第一区域在第一方向的上方、下方以...
该专利属于苏州新维度微纳科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州新维度微纳科技有限公司授权不得商用。

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