【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及感光材料，具体而言，涉及一种酸显影型感光树脂组合物及其制备方法与感光干膜。
技术介绍
1、感光树脂组合物是现代电子领域的重要材料，作为蚀刻或电镀的抗蚀剂材料在印刷电路板（pcb）、引线框架（lf）、太阳能电池、导体封装、bga（ball grid array）及cps（chipsize package）封装中被广泛使用。其中，感光树脂组合物通常是涂覆在pet支撑膜表面，烘干后在其表面紧密贴合一层保护膜，如聚乙烯薄膜（pe）保护层，又称为感光干膜、干膜抗蚀剂等。
2、市场上常使用的感光干膜基本都属于碱显影型感光材料。例如，在制造印刷电路板时，先在铜基板通过热压等方式贴合上干膜抗蚀剂，用具有一定图案的掩膜遮盖于干膜抗蚀剂，进行图形曝光；然后再用弱碱性的水溶液作为显影液以除去未曝光部分，从而在基板上形成抗蚀图形。传统的光掩膜曝光法，菲林底片消耗量大，生产成本高，且经该法曝光得到的线路图形精密度有限，同时，随着电子设备向轻、薄、小发展，相应的pcb要求更加高精细化、高密度化、多层化，正逐渐被不需要菲林底片而使用数字数据...
【技术保护点】
1.一种酸显影型感光树脂组合物，其特征在于，包括如下质量份的原料组分：酸可溶性树脂45~65份，光聚合单体35~55份，光引发剂 0.5~10份，所述酸可溶性树脂由（甲基）丙烯酸烷基酯类单体与含N碱基结构的单体共聚得到，其中含N碱基结构的单体的结构通式包括：（式一），或
2.根据权利要求1所述的酸显影型感光树脂组合物，其特征在于，所述酸可溶性树脂的重均分子量在30000~80000，树脂总胺值在1.5~2.5mmol/g，分子量分布在1.5~3.5。
3.根据权利要求1所述的酸显影型感光树脂组合物，其特征在于，所述含N碱基结构的单体包括丙烯酸二...
【技术特征摘要】
1.一种酸显影型感光树脂组合物，其特征在于，包括如下质量份的原料组分：酸可溶性树脂45~65份，光聚合单体35~55份，光引发剂 0.5~10份，所述酸可溶性树脂由（甲基）丙烯酸烷基酯类单体与含n碱基结构的单体共聚得到，其中含n碱基结构的单体的结构通式包括：（式一），或
2.根据权利要求1所述的酸显影型感光树脂组合物，其特征在于，所述酸可溶性树脂的重均分子量在30000~80000，树脂总胺值在1.5~2.5mmol/g，分子量分布在1.5~3.5。
3.根据权利要求1所述的酸显影型感光树脂组合物，其特征在于，所述含n碱基结构的单体包括丙烯酸二甲氨基乙酯、丙烯酸二乙氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸二乙氨基甲酯、n-（2-二甲氨基乙基）丙烯酰胺、n-二甲氨基丙基丙烯酰胺、甲基丙烯酸-1-甲基-4-哌啶酯，以及甲基丙烯酸-1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶酯中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的酸显影型感光树脂组合物，其特征在于，所述（甲基）丙烯酸烷基酯类单体包括（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸异丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、（甲基)丙烯酸苯酯、（甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸羟甲酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、（甲基)丙烯酸芐基酯、(甲基)丙烯酸戊...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖志义，李暑，邓剑如，安德烈，
申请(专利权)人：湖南初源新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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