硅芯洁净工艺制造技术

硅芯洁净工艺，本发明专利技术涉及多晶硅的加工工艺，具体地说是一种洁净硅芯的方法。按照本发明专利技术提供的技术方案，硅芯洁净工艺包括：ａ．硅芯预处理：先用无水乙醇擦去硅芯表面的杂质，再用丙酮擦去硅芯表面的油污；然后再把硅芯放在超声波清洗仪器中进行超声波清洗；真空干燥；ｂ．洁净：将清洁的硅芯置于密闭的反应容器内，在３００～３２０℃的温度下发生如下反应：Ｓｉ＋３ＨＣｌ→ＳｉＨＣｌ↓［３］＋Ｈ↓［２］；在上述反应过程中，将氢气和氯化氢的混合气体通入反应容器内；ｃ．尾气重复利用：反应产物三氯化氢和氢气为制备多晶硅的原材料，反应产物通过反应容器内的进出气管回气，通过管道进入还原工段。本发明专利技术反应产物可以完全回收，因此实现了氮化物的零排放，改善了环境。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及多晶硅的加工工艺，具体地说是一种洁净硅芯的方法。
技术介绍
硅芯的表面必须经过洁净处理后，才能使用。在现有技术中，硅芯表面 的洁净方式通常为Si溶于硝酸和氢氟酸的混合酸内发生化学反应，其反应 方程式如下3Si+4HN03+18HF—3H2SiF6+4NO+8H20，以此达到洁净的目的。这 种洁净方式的缺陷是在处理过程中会产生大量的氮氧化物，影响到周围的 环境，并需投资环保设备来加以处理，此外现有技术完全是人工操作，对操 作人员的身体会造成一定的危害。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种硅芯洁净工艺,利用硅与氯化氢的化学反应， 来洁净硅芯的表面，由于其反应产物可以完全回收，因此实现了氮化物的零 排放，改善了环境。按照本专利技术提供的技术方案，所述硅芯洁净工艺包括a、 硅芯预处理先用无水乙醇擦去硅芯表面杂质；再用丙酮擦去表面油 污；然后再把硅芯放在超声波清洗仪器中进行超声波清洗；超声波清洗时， 超声波频率为20 40KHZ，洗涤液为清水；采用超声波清洗仪器清洗后，硅 芯产品清洗效果好，并且对硅芯表面没有损伤；不须人手接触清洗液， 安全可靠；产品清洗精度高，可以强有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅芯洁净工艺，其特征在于，所述方法包括如下步骤：　　ａ、硅芯预处理：先用柔软的物品蘸少量无水乙醇擦去硅芯表面的杂质，再用丙酮擦去硅芯表面的油污；然后再把硅芯放在超声波清洗仪器中进行超声波清洗；超声波清洗时，超声波频率为２０～４０ＫＨＺ，洗涤液为清水；然后真空干燥；　　ｂ、洁净：将清洁的硅芯置于密闭的反应容器内，根据硅与氯化氢的化学反应机理，在３００～３２０℃的温度下发生如下反应：Ｓｉ＋３ＨＣｌ→ＳｉＨＣｌ↓［３］＋Ｈ↓［２］，以清除硅芯表面的氧化层和金属杂质；　　在上述反应过程中，将氢气和氯化氢混合气体通入反应容器内，以促进反应过程；在上述混合气体中，氢气９０～９７体积份，氯化氢３～１０体...

【技术特征摘要】
1、一种硅芯洁净工艺，其特征在于，所述方法包括如下步骤a、硅芯预处理先用柔软的物品蘸少量无水乙醇擦去硅芯表面的杂质，再用丙酮擦去硅芯表面的油污；然后再把硅芯放在超声波清洗仪器中进行超声波清洗；超声波清洗时，超声波频率为20～40KHZ，洗涤液为清水；然后真空干燥；b、洁净将清洁的硅芯置于密闭的反应容器内，根据硅与氯化氢的化学反应机理，在300～320℃的温度下发生如下反应Si+3HCl→Si...

【专利技术属性】
技术研发人员：周大荣，王军，高欢，
申请(专利权)人：无锡中彩科技有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]