基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳制造技术

本发明专利技术提供了一种基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，应用于半导体光电子学以及光频梳技术领域，包括：正方形圆弧倒角微腔激光器，用于提供两组双横模生成两组双波长泵浦光，每组双横模的横模间距不同；光纤放大器，用于所述两组双波长泵浦光的一级放大；光分束器，用于将所述两组双波长泵浦光分成两束光信号；两个光带通滤波器，用于分别选择不同的一组所述双波长泵浦光；两个光纤放大器，分别用于所述一组双波长泵浦光的二级放大；两个高非线性光纤环路，分别用于在二级放大后的双波长泵浦光的作用下基于级联四波混频效应产生第一光频梳和第二光频梳，可获得宽谱光频梳。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体光电子学以及光频梳，尤其涉及一种基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳。

技术介绍

1、双光梳技术在双光梳光谱学、高精度测距、光学成像、微波信号处理等方面有着重要应用。用于产生双光梳的方法主要有：基于两台飞秒锁模激光器产生双光梳，通常具有mhz的重复频率和hz或khz量级的重频差；对同一连续光进行双频调制产生双光梳，其重频和重频差由调制信号决定，能够实现灵活调节，但通常需要多个调制器级联以获得宽谱光频梳，且光频梳的重复频率受到调制器带宽的限制；利用连续光泵浦两个独立的高品质因子克尔微腔可产生双光梳，通过精细调控泵浦光的失谐，可获得稳定的孤子光梳；基于单个光纤腔内的复用技术产生双光梳，这种方法生成的双光梳重频差较小。

技术实现思路

1、本专利技术的主要目的在于提供一种基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，旨在解决现有技术中双光梳重频差较小，系统复杂的技术问题。

2、为实现上述目的，本专利技术实施例提供一种基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，包括：

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【技术保护点】

1.一种基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，所述正方形圆弧倒角微腔激光器(1)包括：

3.根据权利要求2所述的基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，所述正方形圆弧倒角微腔(19)和所述输出波导(20)均依次包括：下限制层、有源层、上限制层。

4.根据权利要求1所述的基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，每组所述双横模包括一个基横模和一个一阶横模，所述基横模和所述一阶横模的间隔超过1nm。

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【技术特征摘要】

1.一种基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，所述正方形圆弧倒角微腔激光器(1)包括：

3.根据权利要求2所述的基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，所述正方形圆弧倒角微腔(19)和所述输出波导(20)均依次包括：下限制层、有源层、上限制层。

4.根据权利要求1所述的基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，每组所述双横模包括一个基横模和一个一阶横模，所述基横模和所述一阶横模的间隔超过1nm。

5.根据权利要求1所述的基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差双光梳，其特征在于，所述正方形圆弧倒角微腔激光器(1)在预设的偏置电流下，实现相邻的两组纵模处所述基横模和所述一阶横模的同时激射，除所述基横模和所述一阶横模之外的其他横模在所述预设的偏置电流下不激射。

6.根据权利要求5所述的基于正方形圆弧倒角微腔激光器的高重频差...

【专利技术属性】
技术研发人员：史杨，黄永箴，杨跃德，肖金龙，王婷，
申请(专利权)人：中国科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：