一种提高屏蔽罩类薄料零件平面度的方法技术

技术编号:4132283 阅读:1426 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种提高屏蔽罩类薄料零件平面度的方法,其特征在于,在屏蔽罩类薄料零件的平面上通过均匀设置凹状的点使材料在局部扯动以平衡内应力,从而提高零件的平面度。该方法可用于提高以低碳钢、不锈钢、铜或镍为基本材料制作的薄料零件的平面度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及屏蔽罩类薄料零件加工
,具体涉及一种提高屏蔽罩类 薄料零件平面度的方法。
技术介绍
材料平面度变差主要是内应力不均衡引起。材料在轧制和巻料过程中会产 生内应力,且常常是不均衡的,这时由于材料规则完整,相互制约使其内应力 达到相对平衡,材料平面度相对较好。之后在材料冲压成为零件的过程中,材 料被部分沖切,打破了原来的应力平衡,同时沖压引入了打弯凸包等局部应力 剧变的成型,在这几个因素的影响下,材料发生形变平面度失控。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是如何提供一种提高屏蔽罩类薄料零件平面 度的方法,其目的是提供一种操作简单、成本低廉的提高屏蔽罩类薄料零件平 面度的方法,该方法可用于提高以低碳钢、不锈钢、铜或镍为基本材料制作的 薄料零件的平面度。本专利技术所提出的技术问题是这样解决的提供一种提高屏蔽罩类薄料零件 平面度的方法,其特征在于,在屏蔽罩类薄料零件的平面上通过均匀设置凹状的 点使材料在局部扯动以平衡内应力,从而提高零件的平面度。按照本专利技术所提供的提高屏蔽罩类薄料零件平面度的方法,其特征在于 所述点的形状为圆形、矩形、正方形、菱形或椭圆形。按照本专本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高屏蔽罩类薄料零件平面度的方法,其特征在于,在屏蔽罩类薄料零件的平面上通过均匀设置凹状的点使材料在局部扯动以平衡内应力,从而提高零件的平面度。

【技术特征摘要】
1、一种提高屏蔽罩类薄料零件平面度的方法,其特征在于,在屏蔽罩类薄料零件的平面上通过均匀设置凹状的点使材料在局部扯动以平衡内应力,从而提高零件的平面度。2、 根据权利要求1所述的提高屏蔽罩类薄料零件平面度的方法,其特征在 于所述点的形状为圆形、矩形、正方形、菱形或椭圆形。3、根据权利要求1或2所述的提高屏蔽罩类薄料零件平面度的方法,其特 征在于所述屏蔽罩类薄料零件的材质为低碳钢、不锈钢、铜或镍;所述屏蔽 罩类薄料零件的材质与所打凹状的点的具体尺寸的关系如下零件材料点的大小(mm)点间3巨离(mm)点的深度(mm)低碳钢带0.2-0.80.4-20.01-0.1不锈钢0...

【专利技术属性】
技术研发人员:滕斌田国富杨政武黄宗权游健王一之赵琳谢千辉
申请(专利权)人:成都宏明双新科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:90[中国|成都]

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